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HIGH RESOLUTION PATTERN TRANSFER METHOD

外国特許コード F060001508
整理番号 04T001P
掲載日 2007年2月16日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2005JP019362
国際公開番号 WO 2006/046475
国際出願日 平成17年10月14日(2005.10.14)
国際公開日 平成18年5月4日(2006.5.4)
優先権データ
  • 特願2004-311218 (2004.10.26) JP
発明の名称 (英語) HIGH RESOLUTION PATTERN TRANSFER METHOD
発明の概要(英語) In a micro-lithography using photoresist, a photo-chromic material is further appliedonto the surface of the photoresist layer, and a circuit pattern is divided intoa plurality of image subsets. The first subset image divided is image-formed onthe substrate to expose the photoresist layer. After this, the absorption ratioof the photo-chromic material is recovered to the initial state. Then, the nextsubset image divided is image-formed on the substrate to expose the photoresist layer.This is repeated for all the subsets so as to form the circuit pattern on the photoresistlayer on the substrate. Thus, it is possible to provide a pattern transfer methodof high resolution not affected by superimposing.
  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • Tokyo Institute Of Technology
  • 発明者(英語)
  • Amaya, Kenji
国際特許分類(IPC)
指定国 AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BE BF BG BJ BR BW BY BZ CA CF CG CH CI CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GW HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV LY MA MC MD MG MK ML MN MR MW MX MZ NA NE NG NI NL NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SI SK SL SM SN SY SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW
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