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SPUTTERING APPARATUS FOR FORMING THIN FILM

外国特許コード F080002030
整理番号 F080002030
掲載日 2009年1月30日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2008JP058621
国際公開番号 WO 2008/149635
国際出願日 平成20年5月9日(2008.5.9)
国際公開日 平成20年12月11日(2008.12.11)
優先権データ
  • 特願2007-182014 (2007.7.11) JP
  • 特願2007-146575 (2007.6.1) JP
発明の名称 (英語) SPUTTERING APPARATUS FOR FORMING THIN FILM
発明の概要(英語) A box-rotation multi-dimensional opposed sputtering apparatus in which the leakage magnetic fluxes outside the target holders is reduced, the pattern of the lines of magnetic flux between opposed targets can be easily varied, and the pattern of the lines of magnetic flux can be selected from various types of the patterns. The sputtering apparatus for forming a thin film has a pair of polygonal prism target holders holding targets arranged on the surfaces parallel to the rotation axes of rotatable polygonal prisms. The sputtering apparatus is characterized in that magnetic pole groups each composed of magnets or magnets and yokes are arranged on the back of each target, and that the magnetic pole groups include magnets whose magnetic polarity are different or yokes. At least a part of the yokes may be movable. Magnetic pole pieces for enhancing the uniformity of the magnetic flux density may be interposed between the back of each target and the magnets, and a back yoke may be provided on the opposite side of each magnetic pole group to the target.
  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • Yamaguchi University
  • 発明者(英語)
  • Morohashi, Shinichi
国際特許分類(IPC)
指定国 AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BE BF BG BH BJ BR BW BY BZ CA CF CG CH CI CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GT GW HN HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KM KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LV LY MA MC MD ME MG MK ML MN MR MT MW MX MY MZ NA NE NG NI NL NO NZ OM PG PH PL PT RO RS RU SC SD SE SG SI SK SL SM SN SV SY SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
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