TOP > 外国特許検索 > ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE

ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE

外国特許コード F090002085
整理番号 F090002085
掲載日 2009年5月15日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2005JP021299
国際公開番号 WO 2006/123447
国際出願日 平成17年11月18日(2005.11.18)
国際公開日 平成18年11月23日(2006.11.23)
優先権データ
  • 特願2005-144049 (2005.5.17) JP
発明の名称 (英語) ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE
発明の概要(英語) An electron beam exposure device has a projector (8) for producing a two-dimensional light pattern (13); a microchannel plate (11) for producing an electron beam array that is based on the incident light pattern (13) and amplifying the electron beam array to emit a resultant amplified electron beam array (14); an electron beam lens section (12) for focusing the amplified electron beam array (14). The electron beam exposure device can produce a semiconductor element that is more finely processed for improved performance by using exposure with an electron beam. Further, the electron beam exposure device can reduce costs of the production because the exposure can collectively made by the two-dimensional pattern.
  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • Kyoto University
  • 発明者(英語)
  • Kimura, Kenjiro
  • Kobayashi, Kei
  • Yamada, Hirofumi
  • Matsushige, Kazumi
国際特許分類(IPC)
指定国 AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BE BF BG BJ BR BW BY BZ CA CF CG CH CI CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GW HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KM KN KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV LY MA MC MD MG MK ML MN MR MW MX MZ NA NE NG NI NL NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SI SK SL SM SN SY SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、下記までご連絡ください。

PAGE TOP

close
close
close
close
close
close