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PLASMA PROCESSING DEVICE, PLASMA PROCESSING METHOD, AND PLASMA SURFACE PROCESSING METHOD

外国特許コード F090002110
整理番号 F090002110
掲載日 2009年7月3日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2007JP064219
国際公開番号 WO 2008/010537
国際出願日 平成19年7月19日(2007.7.19)
国際公開日 平成20年1月24日(2008.1.24)
優先権データ
  • 特願2006-197928 (2006.7.20) JP
発明の名称 (英語) PLASMA PROCESSING DEVICE, PLASMA PROCESSING METHOD, AND PLASMA SURFACE PROCESSING METHOD
発明の概要(英語) [PROBLEMS] To generate plasma inside a tube of a small opening diameter and perform plasma processing inside the tube. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A plasma processing device (2) is formed by a chamber (4) and a microwave generation device (6). A microwave is introduced into the chamber via a quartz tube (16). A tube holder (18) is arranged inside the quartz tube (16). Two holes are arranged in the side surface of the tube holders (18). A tube (20) of a micro opening diameter is fixed to the end of the tube holder (18).
  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • National University Corporation Nagoya University
  • 発明者(英語)
  • Kousaka, Hiroyuki
  • Iida, Hitoshi
  • Umehara, Noritugu
国際特許分類(IPC)
指定国 AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BE BF BG BH BJ BR BW BY BZ CA CF CG CH CI CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GT GW HN HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KM KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LV LY MA MC MD ME MG MK ML MN MR MT MW MX MY MZ NA NE NG NI NL NO NZ OM PG PH PL PT RO RS RU SC SD SE SG SI SK SL SM SN SV SY SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
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