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METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR OR INSULATOR/METALLIC LAMINAR COMPOSITE CLUSTER

外国特許コード F110003307
整理番号 A061-29EP
掲載日 2011年6月22日
出願国 欧州特許庁(EPO)
出願番号 03743015
公報番号 1486583
公報番号 1486583
出願日 平成15年1月27日(2003.1.27)
公報発行日 平成16年12月15日(2004.12.15)
公報発行日 平成22年11月3日(2010.11.3)
国際出願番号 PCT/JP2003/000716
国際公開番号 WO2003/072848
国際出願日 平成15年1月27日(2003.1.27)
国際公開日 平成15年9月4日(2003.9.4)
優先権データ
  • 特願2002-049310 (2002.2.26) JP
発明の名称 (英語) METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR OR INSULATOR/METALLIC LAMINAR COMPOSITE CLUSTER
  • 出願人(英語)
  • Japan Science and Technology Agency
  • 発明者(英語)
  • HIHARA, Takehiko
  • SUMIYAMA, Kenji
  • KATOH, Ryoji
国際特許分類(IPC)
欧州特許分類/主・副
  • C23C14/34F
  • C23C14/34
  • H01L51/00A2
  • H01L51/00A2D4
指定国 CH,DE,FR,GB,IT,LI,NL
参考情報 (研究プロジェクト等) CREST Phenomena of Extreme Conditions AREA
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