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POLYMERIZATION INITIATOR FOR LIVING RADICAL POLYMERIZATION

Foreign code F110003397
File No. 2522
Posted date Jun 27, 2011
Country WIPO
International application number 2010JP003722
International publication number WO 2010/140372
Date of international filing Jun 3, 2010
Date of international publication Dec 9, 2010
Priority data
  • P2009-134541 (Jun 3, 2009) JP
Title POLYMERIZATION INITIATOR FOR LIVING RADICAL POLYMERIZATION
Abstract Provided is a method of living radical polymerization which does not necessitate the complicated and intricate synthesis of a dormant species and which is highly efficient. A halogenated derivative compound obtained by halogenating either an alcohol compound having an unconjugated structure or an amine compound having an unconjugated structure with a halogenating agent capable of halogenating alcohols or amines is used as a dormant species for initiating living radical polymerization, and a radical yielded by halogen removal from the halogenated derivative compound is reacted with the unsaturated bond of the monomer. Thus, the monomer, which has a radical-reactive unsaturated bond, is polymerized by living radical polymerization. Preferably, the halogenating agent is a compound (NIS or the like) functioning also as a catalyst.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】リビングラジカル重合方法であって、以下の工程:
 アルコールの水酸基の水素をハロゲン化することが可能なハロゲン化剤により、アルコール化合物をハロゲン化して、該水酸基中の水素がハロゲンに置換されたハロゲン化誘導体化合物を生成する工程であって、ここで、該アルコール化合物の水酸基が結合している原子が非共役構造を有している、工程、および
 該ハロゲン化誘導体化合物をリビングラジカル重合のドーマント種として用いて、ラジカル反応性不飽和結合を有するモノマーのリビングラジカル重合を行う工程であって、該ハロゲン化誘導体化合物からハロゲンが脱離して生成するラジカルを該モノマーの不飽和結合と反応させることを含む、工程、
を包含する、方法。

【請求項2】前記アルコール化合物中の水酸基が結合している原子が炭素またはケイ素である、請求項1に記載の方法。

【請求項3】前記アルコール化合物中の水酸基が結合している原子がSp3混成軌道を有する炭素である、請求項1に記載の方法。

【請求項4】前記ハロゲン化剤が、アルコールをヨウ素化することが可能なヨウ化剤であるか、またはアルコールを臭素化することが可能な臭素化剤である、請求項1~3のいずれか1項に記載の方法。

【請求項5】前記ハロゲン化剤が、以下の式4の構造を有し、
  式4  R2-C(=O)-NX-C(=O)-R3
ここで、Xはハロゲンであり、
R2およびR3はそれぞれ独立して任意の置換基であり、R2およびR3は互いに連結されて環構造を形成してもよく、
該ハロゲン化剤は、リビングラジカル重合の触媒としても作用する、
請求項1~4のいずれか1項に記載の方法

【請求項6】前記ハロゲン化剤において、R2およびR3は互いに連結されてアルキレンまたは置換アルキレンとなって、前記式4の構造が環構造となり、
ここで、該アルキレンの炭素数は1~10であり、
該置換アルキレンにおけるアルキレンの炭素数は1~10であり、
該置換アルキレンにおける置換基がハロゲンまたは水酸基から選択される、
請求項5に記載の方法。

【請求項7】前記式4の構造が5員環構造または6員環構造であり、Xがヨウ素である、請求項6に記載の方法。

【請求項8】前記ハロゲン化剤がN-ヨウ化コハク酸イミドである、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。

【請求項9】前記アルコール化合物が、固体である、請求項1に記載の方法。

【請求項10】前記アルコール化合物が、シリコン基板である、請求項1に記載の方法。

【請求項11】前記ハロゲン化剤がジアセトキシヨードベンゼン((AcO)2IPh)およびI2の混合物である、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。

【請求項12】反応性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合して得られるポリマー鎖の末端にポリオール化合物の残基が結合しているポリマーであって、
 該ポリオール化合物の水酸基に由来する酸素原子が、該ポリマー鎖の末端のモノマー残基中の反応性不飽和結合を構成していた2つの炭素原子のうちのいずれか一方に直接結合している、ポリマー。

【請求項13】反応性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合して得られるポリマー鎖の末端が結合した基板であって、
 該ポリマー鎖の末端のモノマー残基中の、反応性不飽和結合を構成していた2つの炭素原子のうちのいずれか一方に、基板表面の酸素原子が直接結合している、基板。

【請求項14】反応性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合して得られるポリマー鎖の末端にシラノール化合物の残基が結合しているポリマーであって、
 該シラノール化合物の水酸基に由来する酸素原子が、該ポリマー鎖の末端のモノマー残基中の反応性不飽和結合を構成していた2つの炭素原子のうちのいずれか一方に直接結合している、ポリマー。

【請求項15】リビングラジカル重合方法であって、以下の工程:
 アミノ基の窒素に結合している水素をハロゲン化することが可能なハロゲン化剤により、1級または2級のアミン化合物のアミノ基の窒素に結合している水素をハロゲン化して、該アミン化合物の水素がハロゲンに置換されたハロゲン化誘導体化合物を生成する工程であって、ここで、該アミン化合物の該アミノ基が結合している原子が非共役構造を有している、工程、および
 ハロゲン化誘導体化合物をリビングラジカル重合のドーマント種として用いて、ラジカル反応性不飽和結合を有するモノマーのリビングラジカル重合を行う工程であって、該ハロゲン化誘導体化合物からハロゲンが脱離して生成するラジカルを該モノマーの不飽和結合と反応させることを含む、工程、
を包含する、方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • Kyoto University
  • Inventor
  • GOTO, Atsushi
  • KIM, Jeong Sik
  • TSUJII, Yoshinobu
  • FUKUDA, Takeshi
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW,BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN(UTILITY MODEL),HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TH(PETTY PATENT),TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LR(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
Please contact us by e-mail or facsimile if you have any interests on this patent. Thanks.

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