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PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING DEVICE AND PHOTONIC CRYSTAL MANUFACTURING METHOD

外国特許コード F110003677
整理番号 AF08-03WO
掲載日 2011年7月1日
出願国 欧州特許庁(EPO)
出願番号 09809581
公報番号 2333821
出願日 平成21年8月27日(2009.8.27)
公報発行日 平成23年6月15日(2011.6.15)
国際出願番号 PCT/JP2009/004178
国際公開番号 WO2010/023925
国際出願日 平成21年8月27日(2009.8.27)
国際公開日 平成22年3月4日(2010.3.4)
優先権データ
  • 特願2008-224035 (2008.9.1) JP
発明の名称 (英語) PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING DEVICE AND PHOTONIC CRYSTAL MANUFACTURING METHOD
  • 出願人(英語)
  • Japan Science and Technology Agency
  • 発明者(英語)
  • NODA, Susumu
  • TAKAHASHI, Shigeki
国際特許分類(IPC)
欧州特許分類/主・副
  • G02B1/00M1
  • B82Y20/00
指定国 AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LI,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR,AL,BA,RS
参考情報 (研究プロジェクト等) CREST Photonics and Quantum Optics for the Creation of Innovative Functions AREA
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