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Window probe, plasma monitoring device, and plasma processing device 実績あり

外国特許コード F110004758
整理番号 RJ005P27TW
掲載日 2011年7月21日
出願国 台湾
出願番号 92104091
公報番号 200306136
公報番号 I256278
出願日 平成15年2月26日(2003.2.26)
公報発行日 平成15年11月1日(2003.11.1)
公報発行日 平成18年6月1日(2006.6.1)
優先権データ
  • 特願2002-122240 (2002.4.24) JP
発明の名称 (英語) Window probe, plasma monitoring device, and plasma processing device 実績あり
発明の概要(英語)

The present invention relates to a window probe, a plasma monitoring device, and a plasma processing device, which is to directly and easily detect the plasma state generated by applying high frequency or high voltage, wherein the structure is configured with a conductive support member 5 with a portion configured with the opening on the surface opposite to the plasma, and a dielectric member 1 having probe electrode 2 configured on the single surface of the conductive support member 5.

  • 出願人(英語)
  • JAPAN SCIENCE & TECH CORP
  • 発明者(英語)
  • YASAKA, MITSUO
国際特許分類(IPC)
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