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High energy electron diffraction apparatus 実績あり

外国特許コード F110005062
整理番号 A051-12US
掲載日 2011年8月18日
出願国 アメリカ合衆国
出願番号 76285801
公報番号 06677581
出願日 平成13年2月14日(2001.2.14)
公報発行日 平成16年1月13日(2004.1.13)
国際出願番号 PCT/JP99/04949
国際公開番号 WO00/16372
国際出願日 平成11年9月10日(1999.9.10)
国際公開日 平成12年3月23日(2000.3.23)
優先権データ
  • 特願平10-258971 (1998.9.11) JP
  • 特願平11-100134 (1999.4.7) JP
発明の名称 (英語) High energy electron diffraction apparatus 実績あり
発明の概要(英語) A high-energy electron diffraction apparatus in which its electron beam source includes a field emission type electron emitter and a final lens stop or diaphragm is disposed between an objective lens and a specimen. A region of environment of the electron beam that extends from the electron beam source to an objective lens stop or diaphragm is held to a high vacuum, and a region of environment of the electron beam that extends from the objective lens stop or diaphragm to the final lens stop or diaphragm is held to a medium vacuum. A beam axial alignment electrode assembly is disposed between the objective lens stop or diaphragm and the final lens stop or diaphragm. There are also disposed an astigmatic correction electrode assembly and a scan deflection electrode assembly between the final lens stop or diaphragm and the specimen. A screen is spaced away from the specimen at a distance of 50 mm or less.
  • 発明者/出願人(英語)
  • Koinuma, Hideomi; Yokohama [JP]
  • Kawasaki, Masashi; Yokohama [JP]
  • Japan Science and Technology Corporation, Kawaguchi [JP]
国際特許分類(IPC)
米国特許分類/主・副
  • 250/288
  • 250/306
参考情報 (研究プロジェクト等) CREST Single Molecule and Atom Level Reactions AREA
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