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Laser heating apparatus 実績あり

外国特許コード F110005063
整理番号 A051-13US
掲載日 2011年8月18日
出願国 アメリカ合衆国
出願番号 78646001
公報番号 06617539
出願日 平成13年3月5日(2001.3.5)
公報発行日 平成15年9月9日(2003.9.9)
国際出願番号 PCT/JP99/04948
国際公開番号 WO00/15864
国際出願日 平成11年9月10日(1999.9.10)
国際公開日 平成12年3月23日(2000.3.23)
優先権データ
  • 特願平10-258973 (1998.9.11) JP
発明の名称 (英語) Laser heating apparatus 実績あり
発明の概要(英語) A laser heating apparatus (20) for heating a thin film forming substrate (1) in a thin film manufacturing process is disclosed. The substrate (1) set in position in a vacuum chamber (101) of a film forming apparatus (100) is irradiated with a laser light and is thereby heated to a desired temperature. The laser light is guided to a region of the substrate (1) by means of an optical fiber (23), and the laser beams emanating from the outlet end of the optical fiber (23) is incident directly or indirectly via a reflecting mirror (33) on the substrate (1). The optical fiber (23) is sheathed with a jacket tube (24) whose interior is vacuum drawn. Using a laser light enables the arrangement to be used even in an oxidizing atmosphere and even an insulating substrate to be heated.
  • 発明者/出願人(英語)
  • Koinuma, Hideomi; Yokohama [JP]
  • Kawasaki, Masashi; Yokohama [JP]
  • Japan Science and Technology Kawaguchi, Tokyo [JP]
国際特許分類(IPC)
米国特許分類/主・副
  • 219/121.6
参考情報 (研究プロジェクト等) CREST Single Molecule and Atom Level Reactions AREA
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