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Multivalent ion generating source and charged particle beam apparatus using such ion generating source

外国特許コード F110005499
整理番号 N011-02WO
掲載日 2011年9月7日
出願国 アメリカ合衆国
出願番号 57694505
公報番号 20080087842
公報番号 07544952
出願日 平成19年4月9日(2007.4.9)
公報発行日 平成20年4月17日(2008.4.17)
公報発行日 平成21年6月9日(2009.6.9)
国際出願番号 PCT/JP2005/007284
国際公開番号 WO2006/040850
国際出願日 平成17年4月8日(2005.4.8)
国際公開日 平成18年4月20日(2006.4.20)
優先権データ
  • 特願2004-296890 (2004.10.8) JP
発明の名称 (英語) Multivalent ion generating source and charged particle beam apparatus using such ion generating source
発明の概要(英語) A multicharged ions generating source that is easy to manufacture, excellent in controllability and maintainability, high in degree of ionization and large in beam intensity and a charged particle beam apparatus using the same are disclosed. The multicharged ions generating source includes an ion source electrode (3) comprising an electron source (4), a drift tube (5) that constitutes an ion trapping region and a collector (6), a superconducting magnet (11) for ion entrapment, an ion infeed means (20, 22), a first vacuum chamber (2) receiving the ion source electrode (3), a second vacuum chamber (10) receiving the superconducting magnet (11), and a vacuum pumping unit (15, 16) provided for each of the first and second vacuum chambers. The first and the second vacuum chambers (2) and (10) are made removable from each other, and only the ion source electrode (3) to be held at extremely high vacuum can be baked for degassing.
  • 発明者/出願人(英語)
  • Sakurai, Makoto; Kobe [JP]
  • Nakajima, Fumiharu; Kobe [JP]
  • Fukumoto, Takunori; Kobe [JP]
  • Nakamura, Nobuyuki; Chofu [JP]
  • Ohtani, Shunsuke; Naka-gun [JP]
  • Mashiko, Shinro; Kobe [JP]
  • Japan Science and Technology Agency, [JP]
国際特許分類(IPC)
米国特許分類/主・副
  • 250/427
  • 250/423
  • 250/424
  • 313/153
  • 313/160
  • 315/85
参考情報 (研究プロジェクト等) CREST Creation of Ultrafast, Ultralow Power, Super-performance Nanodevices and Systems AREA
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