TOP > 外国特許検索 > X-ray target and apparatuses using the same

X-ray target and apparatuses using the same

外国特許コード F110005766
整理番号 Y0456WO
掲載日 2011年9月14日
出願国 アメリカ合衆国
出願番号 54780105
公報番号 20070248215
公報番号 07551722
出願日 平成18年10月6日(2006.10.6)
公報発行日 平成19年10月25日(2007.10.25)
公報発行日 平成21年6月23日(2009.6.23)
国際出願番号 PCT/JP2005/007279
国際公開番号 WO2005/098871
国際出願日 平成17年4月8日(2005.4.8)
国際公開日 平成17年10月20日(2005.10.20)
優先権データ
  • 特願2004-114704 (2004.4.8) JP
発明の名称 (英語) X-ray target and apparatuses using the same
発明の概要(英語) Disclosed are an X-ray target having a micro focus size and capable of producing X-rays of high intensity, and apparatuses using such an X-ray target. The X-ray target (1) has a structure in which a first cap layer (21), a target layer (22), and a second cap layer (23) are successively laminated, wherein the first and second cap layers (21 and 23) are each composed of a material which is lower in electron beam absorptivity than that of which the target layer (22) is composed. An X-ray generator using the X-ray target (1) can generate highly intense and nanofocus (several nm) X-rays (17). Using the X-ray generator, an X-ray microscope allows obtaining a high resolution transmission image, an X-ray diffraction apparatus allows obtaining an X-ray diffraction image of a very small area, and a fluorescent X-ray analysis apparatus allows making the fluorescent X-ray analysis of a minute area.
  • 発明者/出願人(英語)
  • Ohshima, Ken-ichi; Tsukuba [JP]
  • Harada, Jinpei; Tokyo [JP]
  • Japan Science and Technology Agency, Kawaguchi-shi [JP]
国際特許分類(IPC)
米国特許分類/主・副
  • 378/143
  • 378/43
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、問合せボタンを押してください。

PAGE TOP

close
close
close
close
close
close