TOP > 外国特許検索 > Method for reactive ion etching and apparatus therefor

Method for reactive ion etching and apparatus therefor 実績あり

外国特許コード F110005782
整理番号 Y9803US2
掲載日 2011年9月14日
出願国 アメリカ合衆国
出願番号 05924802
公報番号 20020079054
公報番号 06669807
出願日 平成14年1月31日(2002.1.31)
公報発行日 平成14年6月27日(2002.6.27)
公報発行日 平成15年12月30日(2003.12.30)
優先権データ
  • 特願平09-256635 (1997.9.22) JP
  • 特願平09-256636 (1997.9.22) JP
発明の名称 (英語) Method for reactive ion etching and apparatus therefor 実績あり
発明の概要(英語) An apparatus for reactive-ion etching including a reaction vessel and metallic parts disposed in the reaction vessel, the whole or a part of which includes at least one metallic material selected from the group consisting of titanium, aluminum, and an alloy including at least one of them as a main component.
  • 発明者/出願人(英語)
  • Nakatani, Isao; Ibaraki [JP]
  • National Research Institute for Metals, Ibaraki [JP]
  • Japan Science and Technology Corporation, Saitama [JP]
国際特許分類(IPC)
米国特許分類/主・副
  • 156/345.1
  • 156/345.43
  • 156/345.47
  • 156/345.48
  • 118/723
  • 118/723
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、問合せボタンを押してください。

PAGE TOP

close
close
close
close
close
close