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Higher-order silane composition, method for manufacturing substrate with film, electro-optical equipment and electronic device

外国特許コード F110005962
整理番号 E08603TW
掲載日 2011年12月7日
出願国 台湾
出願番号 99100387
公報番号 201043636
出願日 平成22年1月8日(2010.1.8)
公報発行日 平成22年12月16日(2010.12.16)
優先権データ
  • 特願2009-003554 (2009.1.9) JP
発明の名称 (英語) Higher-order silane composition, method for manufacturing substrate with film, electro-optical equipment and electronic device
発明の概要(英語)

To provide a higher-order silane composition capable of forming a safe, high-quality film with desired thickness through a liquid phase process. The higher-order silane composition is a composition containing a higher-order silane compound and a solvent, provided that the solvent comprises a cyclic hydrocarbon which has one or two double bonds, does not have any alkyl group, comprises only carbons and hydrogens and has a refractive index of 1.40-1.51, a dielectric constant of <= 3.0 and a molecular weight of <= 180.

  • 出願人(英語)
  • JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY
  • 発明者(英語)
  • SHIMODA, TATSUYA,
  • MATSUKI, YASUO,
  • MASUDA, TAKASHI
国際特許分類(IPC)
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO SHIMODA Nano-Liquid Process AREA
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