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EMBEDDING RESIN COMPOSITION FOR ELECTRON MICROSCOPE, AND METHOD FOR OBSERVING SAMPLE ON ELECTRON MICROSCOPE USING SAID COMPOSITION 新技術説明会

外国特許コード F130007238
掲載日 2013年3月28日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2012JP072418
国際公開番号 WO 2013/035681
国際出願日 平成24年9月4日(2012.9.4)
国際公開日 平成25年3月14日(2013.3.14)
優先権データ
  • 特願2011-193828 (2011.9.6) JP
  • 特願2011-247267 (2011.11.11) JP
  • 特願2011-259674 (2011.11.29) JP
発明の名称 (英語) EMBEDDING RESIN COMPOSITION FOR ELECTRON MICROSCOPE, AND METHOD FOR OBSERVING SAMPLE ON ELECTRON MICROSCOPE USING SAID COMPOSITION 新技術説明会
発明の概要(英語)

Provided are: an embedding resin composition for an electron microscope, which has satisfactory performance for use as an embedding agent, including embedding performance and a property of being sliced thin, and can exhibit excellent antistatic performance

and a method for observing a sample on an electron microscope using the composition. This embedding resin composition for an electron microscope comprises an ionic liquid and an embedding agent comprising an epoxy resin, a methacrylic acid resin or an unsaturated polyester resin, and has antistatic performance. It is preferred that the ionic liquid comprises a quaternary ammonium compound represented by formula (I) and an anion selected from the group consisting of BF4 -, PF6 -, (CF3SO2)2N-, a halide ion, a conjugate base of a carboxylic acid, a conjugate base of a sulfonic acid and a conjugate base of an inorganic acid.

  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • KURUME UNIVERSITY,
  • JAPAN CARLIT CO., LTD,
  • OHTA, KEISUKE,
  • KIRYU, TOSHIYUKI
  • 発明者(英語)
  • OHTA, KEISUKE,
  • KIRYU, TOSHIYUKI
国際特許分類(IPC)
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