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METHOD FOR FORMING MAGNESIUM OXIDE THIN FILM AND PROCESSED PLATE

外国特許コード F130007287
整理番号 K03107WO
掲載日 2013年4月11日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2012JP056191
国際公開番号 WO 2013/035360
国際出願日 平成24年3月9日(2012.3.9)
国際公開日 平成25年3月14日(2013.3.14)
優先権データ
  • 特願2011-197562 (2011.9.9) JP
発明の名称 (英語) METHOD FOR FORMING MAGNESIUM OXIDE THIN FILM AND PROCESSED PLATE
発明の概要(英語)

A method for depositing a magnesium oxide thin film on a substrate by a laser ablation method using a sintered body or single crystal of magnesium oxide as a target. In this method, a flat processed film, which is composed of magnesium oxide having the (111) plane as a surface, is formed by directly depositing and epitaxially growing a film on the main surface of a substrate that is composed of strontium titanate having the (111) plane as the main surface or yttria-stabilized zirconia having the (111) plane as the main surface.

  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY,
  • SUSAKI TOMOFUMI,
  • HOSONO HIDEO,
  • FUJIHASHI TADAHIRO,
  • TODA YOSHITAKE
  • 発明者(英語)
  • SUSAKI TOMOFUMI,
  • HOSONO HIDEO,
  • FUJIHASHI TADAHIRO,
  • TODA YOSHITAKE
国際特許分類(IPC)
参考情報 (研究プロジェクト等) PRESTO Materials and processes for innovative next-generation devices AREA
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