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MICROCRYSTALLINE SILICON, MICROCRYSTALLINE-SILICON MANUFACTURING METHOD, AND SOLAR CELL PROVIDED WITH SAID MICROCRYSTALLINE SILICON

外国特許コード F130007630
整理番号 E086P49WO
掲載日 2013年9月30日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2013JP054489
国際公開番号 WO 2013/133044
国際出願日 平成25年2月22日(2013.2.22)
国際公開日 平成25年9月12日(2013.9.12)
優先権データ
  • 特願2012-049653 (2012.3.6) JP
発明の名称 (英語) MICROCRYSTALLINE SILICON, MICROCRYSTALLINE-SILICON MANUFACTURING METHOD, AND SOLAR CELL PROVIDED WITH SAID MICROCRYSTALLINE SILICON
発明の概要(英語)

In one microcrystalline-silicon manufacturing method in the present invention, amorphous silicon containing at least 4 at.% hydrogen is exposed to a laser to form microcrystalline silicon therefrom, said microcrystalline silicon having a textured surface. This makes it possible to provide silicon having a high-haze optical confinement structure that is useful in solar cells and the like and contributes to simplifying the process of manufacturing solar cells and improving the performance thereof.

  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY
  • 発明者(英語)
  • SHIMODA, TATSUYA,
  • SHEN, ZHONGRONG,
  • MASUDA, TAKASHI
国際特許分類(IPC)
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO SHIMODA Nano-Liquid Process AREA
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