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METHOD FOR FORMING ELECTROCONDUCTIVE FILM

外国特許コード F130007653
整理番号 E086P47
掲載日 2013年10月16日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2013JP056207
国際公開番号 WO 2013/129701
国際出願日 平成25年2月28日(2013.2.28)
国際公開日 平成25年9月6日(2013.9.6)
優先権データ
  • 特願2012-046653 (2012.3.2) JP
発明の名称 (英語) METHOD FOR FORMING ELECTROCONDUCTIVE FILM
発明の概要(英語)

A method for forming an electroconductive film, characterized in comprising: a coating film formation step for forming, on a substrate, a coating film by applying a composition containing a carboxylate of a metal selected from copper, palladium, rhodium, ruthenium, iridium, nickel, and bismuth, one or more types of metal compounds selected from the group consisting of alkoxides, diketonates, and nitrosyl carboxylates, and a solvent

and a hydrogen radical treatment step for supplying hydrogen radicals to the coating film and performing hydrogen radical treatment.

  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY
  • 発明者(英語)
  • SHIMODA TATSUYA,
  • LI JINWANG
国際特許分類(IPC)
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO SHIMODA Nano-Liquid Process AREA
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