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Microcrystalline silicon and manufacturing methods thereof, and solar cells having the same

外国特許コード F130007778
整理番号 E086P49TW
掲載日 2013年12月13日
出願国 台湾
出願番号 102107006
公報番号 201338190
出願日 平成25年2月27日(2013.2.27)
公報発行日 平成25年9月16日(2013.9.16)
優先権データ
  • 特願2012-049653 (2012.3.6) JP
発明の名称 (英語) Microcrystalline silicon and manufacturing methods thereof, and solar cells having the same
発明の概要(英語)

In one microcrystalline-silicon manufacturing method in the present invention, amorphous silicon containing at least 4 at.% hydrogen is exposed to a laser to form microcrystalline silicon therefrom, said microcrystalline silicon having a textured surface. This makes it possible to provide silicon having a high-haze optical confinement structure that is useful in solar cells and the like and contributes to simplifying the process of manufacturing solar cells and improving the performance thereof.

  • 出願人(英語)
  • JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY
  • 発明者(英語)
  • SHIMODA, TATSUYA,
  • SHEN, ZHONG-RONG,
  • MASUDA, TAKASHI
国際特許分類(IPC)
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO SHIMODA Nano-Liquid Process AREA
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