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Method for forming electroconductive film

外国特許コード F140007986
整理番号 E086P47TW
掲載日 2014年10月7日
出願国 台湾
出願番号 102107256
公報番号 201415492
出願日 平成25年3月1日(2013.3.1)
公報発行日 平成26年4月16日(2014.4.16)
優先権データ
  • 特願2012-046653 (2012.3.2) JP
発明の名称 (英語) Method for forming electroconductive film
発明の概要(英語) A method for forming an electroconductive film, characterized in comprising: a coating film formation step for forming, on a substrate, a coating film by applying a composition containing a carboxylate of a metal selected from copper, palladium, rhodium, ruthenium, iridium, nickel, and bismuth, one or more types of metal compounds selected from the group consisting of alkoxides, diketonates, and nitrosyl carboxylates, and a solvent; and a hydrogen radical treatment step for supplying hydrogen radicals to the coating film and performing hydrogen radical treatment.
  • 出願人(英語)
  • JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY
  • 発明者(英語)
  • SHIMODA TATSUYA
  • LI JIN-WANG
国際特許分類(IPC)
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO SHIMODA Nano-Liquid Process AREA
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