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METHOD FOR FORMING POROUS SURFACE, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOCHEMICAL REACTOR, AND PHOTOCHEMICAL REACTOR コモンズ

外国特許コード F150008230
掲載日 2015年3月26日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2014JP056652
国際公開番号 WO 2014148347
国際出願日 平成26年3月13日(2014.3.13)
国際公開日 平成26年9月25日(2014.9.25)
優先権データ
  • 特願2013-055936 (2013.3.19) JP
発明の名称 (英語) METHOD FOR FORMING POROUS SURFACE, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOCHEMICAL REACTOR, AND PHOTOCHEMICAL REACTOR コモンズ
発明の概要(英語) Provided is a porous surface (Ef) formed by adding, to a silica dispersion liquid (Ag) containing alkoxysilane, numerous silica particles (Bm…) selected so that the particle diameter is at least 1 µm and the particle diameter is within a size range of 15% or less relative to the outer diameter of particles (3), generating a surface formation agent (E) using the sol-gel method, applying this surface formation agent (E) to the inner surfaces (2f, 3f) of a glass tube (2), then applying heat processing to the surface formation agent (E) at a prescribed fixing temperature, and fixing the silica particles (Bm…) onto the inner surfaces (2f, 3f) of the glass tube (2) in a state in which some of the silica dispersion liquid (Ag) remains.
  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • SHINSHU UNIVERSITY
  • 発明者(英語)
  • USAMI HISANAO
  • MURAKAMI YASUSHI
国際特許分類(IPC)
指定国 National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BN BR BW BY BZ CA CH CL CN CO CR CU CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IR IS JP KE KG KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PA PE PG PH PL PT QA RO RS RU RW SA SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TH TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LR LS MW MZ NA RW SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ RU TJ TM
EPO: AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW KM ML MR NE SN TD TG
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