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高分子成形体の着色方法 コモンズ

国内特許コード P05A008314
整理番号 110
掲載日 2006年4月7日
出願番号 特願2000-295478
公開番号 特開2002-105228
登録番号 特許第3472811号
出願日 平成12年9月28日(2000.9.28)
公開日 平成14年4月10日(2002.4.10)
登録日 平成15年9月19日(2003.9.19)
発明者
  • 大嶋 正裕
  • 橋本 伊織
  • 谷垣 昌敬
出願人
  • 国立大学法人京都大学
発明の名称 高分子成形体の着色方法 コモンズ
発明の概要 【課題】 経済的で、かつ、均一に顔料を着色できる着色方法を提供することである。
【解決手段】 本発明は、二酸化炭素の超臨界状態下において、少なくとも表面に非晶質層を有する高分子成形体に顔料を接触させることを特徴とする。また、二酸化炭素の超臨界状態での温度が、高分子成形体のガラス転移温度以上、かつ、融点以下の温度であることを特徴とする。
従来技術、競合技術の概要


従来、高分子成形体の着色は、ポリマーペレットに顔料を混ぜ、押出し機等で混練した後、射出成形や押出成形によって行われていた。この方法では、成形と同時に着色を行うことができる点で有利である。また、ポリマーペレットを押出成形又は射出成形によって成形した後、油性ペイントを成形体の表面に吹きつけることにより行われていた。

産業上の利用分野


本発明は、着色方法に関し、特に、超臨界状態の二酸化炭素を用いた高分子成形体の着色方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
二酸化炭素の超臨界状態下において、少なくとも表面に非晶質層を有する高分子成形体に、当該高分子成形体の融点より10~30℃低い温度で、前記超臨界状態下の二酸化炭素中に溶解した顔料を接触させることを特徴とする高分子成形体の着色方法。

【請求項2】
二酸化炭素の超臨界状態での温度が、高分子成形体のガラス転移温度以上、かつ、融点より15~25℃低い温度であることを特徴とする請求項1項に記載の方法。

【請求項3】
高分子成形体が、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ乳酸、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル、フッ素樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の材料からなる請求項1又は2項のいずれか1項に記載の方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 登録
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