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フラン環含有高分子化合物、その製造方法及びその用途 コモンズ

国内特許コード P05A008319
整理番号 226
掲載日 2006年4月7日
出願番号 特願2003-310440
公開番号 特開2005-075984
登録番号 特許第3834650号
出願日 平成15年9月2日(2003.9.2)
公開日 平成17年3月24日(2005.3.24)
登録日 平成18年8月4日(2006.8.4)
発明者
  • 大江 浩一
  • 三木 康嗣
  • 和志武 洋祐
  • 植村 榮
出願人
  • 学校法人京都大学
発明の名称 フラン環含有高分子化合物、その製造方法及びその用途 コモンズ
発明の概要

【課題】 共役エンインカルボニル化合物と遷移金属錯体とから発生する非安定型の2-フリルカルベン錯体のカルベン部分を重合反応の反応点として利用し、有機発光素子材料や有機トランジスタ材料などとしての利用が期待される高分子化合物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式(I)で表されてなることを特徴とするフラン環含有高分子化合物である。
【化1】

【選択図】 なし

従来技術、競合技術の概要


高度情報化社会の今日、情報記憶、表示、記録、通信などの分野で光関連技術の重要性が高まっている中、有機発光素子材料や有機トランジスタ材料などの研究開発が盛んに行われている。



ところで、本発明者らは、これまでに、触媒量の遷移金属錯体の存在下、共役エンインカルボニル化合物が様々なアルケンと反応し、シクロプロパン化合物に変換されることを見出している(非特許文献1参照)。この反応は、下記の反応式で表されるように、中間体として反応系内で発生する非安定型の2-フリルカルベン錯体を経由していると考えられる。



【化学式6】




カルベン錯体におけるカルベン部分は反応性に富む。従って、このカルベン部分を重合反応の反応点として利用することによる高分子化合物の合成計画を立てることができる。しかしながら、このような戦略に基づいた、有機発光素子材料や有機トランジスタ材料などとしての利用が期待される高分子化合物の合成についての報告は、本発明者らを含めて未だ存在しない。

【非特許文献1】Miki,K. ; Nishino,F. ; Ohe,K. ; Uemura,S. J.Am.Chem.Soc. 2002,124,5260. " Novel Approach for Catalytic Cyclopropanation of Alkenes via (2-Furyl)carbene Complexes from 1-Benzoyl-cis-1-butene-3-yne "

産業上の利用分野


本発明は、有機発光素子材料や有機トランジスタ材料などとしての利用が期待されるフラン環含有高分子化合物に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記一般式(I)で表されてなることを特徴とするフラン環含有高分子化合物。
【化学式1】


[式中、点線で表される部分はシクロプロパン環又は二重結合を示す。R1とR2は同一又は異なって水素原子、C1-20アルキル基、-(CH2OCH2q-OR11(R11はC1-6アルキル基を示しqは1~8の整数を示す)のいずれかを示す。R1とR2が一緒になって炭素数3以上のアルキレンを形成してもよい。R3とR4は同一又は異なってC1-6アルキル基、C1-6アルコキシル基、水酸基、ハロゲン原子のいずれかを示す。R5は水素原子、-COR12(R12はC1-6アルキル基を示す)、-COOR13(R13はC1-6アルキル基を示す)のいずれかを示す。R6は水素原子、C1-6アルキル基、置換されていてもよいアリール基のいずれかを示す。lとmは同一又は異なって0~4の整数であり、かつ、l+mは0~4の整数である。nは2以上の整数である。]

【請求項2】
下記一般式(II)で表されてなることを特徴とする請求項1記載のフラン環含有高分子化合物。
【化学式2】


[式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,l,m,nは前出の通りである。]

【請求項3】
下記一般式(III)で表されてなることを特徴とする請求項1記載のフラン環含有高分子化合物。
【化学式3】


[式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,l,m,nは前出の通りである。]

【請求項4】
数平均分子量が5000~10000であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のフラン環含有高分子化合物。

【請求項5】
下記一般式(IV)で表される共役エンインカルボニル化合物を用い、触媒量の遷移金属錯体の存在下、重付加反応を行うことを特徴とする請求項2記載のフラン環含有高分子化合物の製造方法。
【化学式4】


[式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,l,mは前出の通りである。]

【請求項6】
下記一般式(V)で表される共役エンインカルボニル化合物を用い、ホスフィンと触媒量の遷移金属錯体の存在下、重縮合反応を行うことを特徴とする請求項3記載のフラン環含有高分子化合物の製造方法。
【化学式5】


[式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,l,mは前出の通りである。]

【請求項7】
遷移金属錯体がロジウム錯体であることを特徴とする請求項5又は6記載の製造方法。

【請求項8】
請求項1記載のフラン環含有高分子化合物の有機発光素子材料又は有機トランジスタ材料としての使用方法。

































産業区分
  • 高分子化合物
  • 電力応用
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
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