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高密度光くし型フィルタ及びその作製方法

国内特許コード P06P003283
整理番号 P04-008
掲載日 2006年4月21日
出願番号 特願2004-259563
公開番号 特開2006-078546
登録番号 特許第4269056号
出願日 平成16年9月7日(2004.9.7)
公開日 平成18年3月23日(2006.3.23)
登録日 平成21年3月6日(2009.3.6)
発明者
  • 塙 雅典
出願人
  • 学校法人山梨大学
発明の名称 高密度光くし型フィルタ及びその作製方法
発明の概要

【課題】小型で高密度のくし型フィルタを簡易に作製することができる高密度光くし型フィルタ及びその作製方法を提供する。
【解決手段】感光性光ファイバのコア14にサブグレーティング(サブFBG30)を所定間隔で配置した超格子構造ファイバグレーティング(SSFBG)を形成すると共に、ブラッグ波長λのサブFBG30の間にブラッグ波長λのサブFBG32を配置して2つのSSFBGを形成する。このインタリーブ型超格子構造ファイバグレーティング(ISSFBG)によって、くし型反射特性の反射ピークを高密度化する。
【選択図】図11

従来技術、競合技術の概要


近年,全光ネットワークの実現に向けて研究が行われており,様々な光信号処理技術が必要とされている。光信号処理技術の実装手段の一つとして、光ファイバなどの一次元光導波路のコア内に屈折率変化による回折格子を形成したブラッググレーティングという光デバイスが知られている.中でも光ファイバのコアに回折格子を形成したデバイスはファイバグレーティング(FBG:Fiber Bragg Grating)と呼ばれており(例えば特許文献1,2参照)、小型で安価なデバイスであり、また、光ファイバとの親和性が高いという特徴がある。尚、本発明はFBGに限定されるものではなく、平面光導波路に作製するブラッググレーティングなどにも適用が可能であるが、本明細書ではFBGを例にして説明する。



また、FBGを応用したファイバグレーティング型デバイスの1つに超格子構造ファイバグレーティング(SSFBG:Super Structure Fiber Bragg Grating(別名:標本化ファイバグレーティング(Sampled (Fiber) Grating))が知られている。SSFBGは、光ファイバのコア内にFBG(サブFBG)を離散的かつ等間隔に配置したもので、くし型の反射特性を持つ光くし型フィルタとして機能する。SSFBGは、多波長の光を一括してフィルタリングできるため、多波長光源やWDM通信システム等においてシステムの低価格化や簡易化を実現するデバイスとして期待されている。



更に、SSFBGのくし型特性を高密度化する技術として多点位相シフト(MPS)法が提案されている(例えば、那須悠介、山下真司:“DWDM用スーパストラクチャーファイバブラッググレーティングの新しい作成法-位相マスク走査法と多点位相シフト法-”、電子情報通信学会技術研究報告OFT2001-43(2001-10)、又は、特許文献3等参照)。通常のSSFBGにおいてくし型特性を高密度化するためにはサブFBGの間隔を広くする必要があり、そのためにデバイス長が長く(~数十cm)なるが、長いデバイスは不便である上に、簡便にFBGを作製できる位相マスク法では位相マスク長によって全長が制限されるため現実的ではない。これに対して多点位相シフト法は、ある間隔でサブFBGが配置されたSSFBGにおいて、サブFBGの間にUV(紫外)光を照射して光路長を延ばし、かつ、適切な位相シフトを与える方法であり、サブFBGの間隔を短く保ったままくし型特性を高密度化することができる。

【特許文献1】特許第2521708号公報

【特許文献2】特開平06―235808号公報

【特許文献3】特開2003-4926号公報

産業上の利用分野


本発明は高密度光くし型フィルタ及びその作製方法に係り、特にインタリーブにより超格子構造グレーティングのくし型反射特性を高密度化する高密度光くし型フィルタ及びその作製方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
実質的に同一の反射帯域を有するサブグレーティングを離散的かつ等間隔に配置したくし型反射特性を有する複数の超格子構造グレーティングが一次元光導波路に形成され、
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングが他の超格子構造グレーティングのサブグレーティングの間に形成されると共に、前記各超格子構造グレーティングのくし型反射特性の反射ピークの波長が他の超格子構造グレーティングのくし型反射特性の反射ピークの波長の間となるように前記各超格子構造グレーティングが異なるくし型反射特性を有して形成されることを特徴とする高密度光くし型フィルタ作製方法。

【請求項2】
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、実質的に同一の反射帯域を有する均一グレーティングピッチのグレーティングであることを特徴とする請求項1記載の高密度光くし型フィルタ作製方法。

【請求項3】
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、実質的に同一の反射帯域を有するアポダイズグレーティングであることを特徴とする請求項1記載の高密度光くし型フィルタ作製方法。

【請求項4】
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、実質的に同一の反射帯域を有するチャープグレーティングであることを特徴とする請求項1記載の高密度光くし型フィルタ作製方法。

【請求項5】
前記複数の超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、前記くし型特性を有する光フィルタのくし型特性の反射ピークの波長間隔が実質的に一定となるような間隔で配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1に記載の高密度光くし型フィルタ作製方法。

【請求項6】
前記複数の超格子構造グレーティングのサブグレーティングの反射特性は、全て実質的に同一であることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1に記載の高密度光くし型フィルタ作製方法。

【請求項7】
前記複数の超格子構造グレーティングのサブグレーティングの反射特性は、各々異なることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1に記載の高密度光くし型フィルタ作製方法。

【請求項8】
実質的に同一の反射帯域を有するサブグレーティングを離散的かつ等間隔に配置したくし型反射特性を有する複数の超格子構造グレーティングが一次元光導波路に形成され、
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングが他の超格子構造グレーティングのサブグレーティングの間に形成されると共に、前記各超格子構造グレーティングのくし型反射特性の反射ピークの波長が他の超格子構造グレーティングのくし型反射特性の反射ピークの波長の間となるように前記各超格子構造グレーティングが異なるくし型反射特性を有することを特徴とする高密度光くし型フィルタ。

【請求項9】
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、実質的に同一の反射帯域を有する均一グレーティングピッチのグレーティングであることを特徴とする請求項8記載の高密度光くし型フィルタ。

【請求項10】
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、実質的に同一の反射帯域を有するアポダイズグレーティングであることを特徴とする請求項8記載の高密度光くし型フィルタ。

【請求項11】
前記各超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、実質的に同一の反射帯域を有するチャープグレーティングであることを特徴とする請求項8記載の高密度光くし型フィルタ。

【請求項12】
前記複数の超格子構造グレーティングのサブグレーティングは、前記くし型特性を有する光フィルタのくし型特性の反射ピークの波長間隔が実質的に一定となるような間隔で配置されていることを特徴とする請求項8乃至11のうちいずれか1に記載の高密度光くし型フィルタ。

【請求項13】
前記複数の超格子構造グレーティングのサブグレーティングの反射特性は、全て実質的に同一であることを特徴とする請求項8乃至12のうちいずれか1に記載の高密度光くし型フィルタ。

【請求項14】
前記複数の超格子構造グレーティングのサブグレーティングの反射特性は、各々異なることを特徴とする請求項8乃至12のうちいずれか1に記載の高密度光くし型フィルタ。
産業区分
  • 光学装置
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2004259563thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
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