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プラズマ滅菌装置 UPDATE 新技術説明会

国内特許コード P06A009291
掲載日 2006年9月1日
出願番号 特願2004-203419
公開番号 特開2006-020950
登録番号 特許第4006491号
出願日 平成16年7月9日(2004.7.9)
公開日 平成18年1月26日(2006.1.26)
登録日 平成19年9月7日(2007.9.7)
発明者
  • 林 信哉
  • 後藤 昌昭
  • 山部 長兵衛
  • 佐藤 三郎
出願人
  • 国立大学法人佐賀大学
  • 国立大学法人九州大学
発明の名称 プラズマ滅菌装置 UPDATE 新技術説明会
発明の概要 【課題】 酸素ラジカルを高密度に発生させて被処理物を確実且つ安価に滅菌することができるプラズマ滅菌装置を提供する。
【解決手段】 被処理物を収納する収納手段1を低気圧維持手段2により低気圧に維持し、この収納手段1に酸素ガス供給手段3から酸素ガスを供給し、この酸素ガスの酸素をプラズマ生成手段4がプラズマ化して酸素ラジカルを生成するようにしているので、酸素ラジカルを長時間単体として維持させると共に、高密度に発生させることができることとなり、被処理物を確実且つ安価に滅菌できる。
【選択図】 図1

従来技術、競合技術の概要


背景技術となるプラズマ滅菌装置は、特開平10-99415号公報(第1の背景技術)、特開平7-18461号公報(第2の背景技術)に開示されるものがある。この各背景技術を図5及び図6に概略構成断面図として示す。



図5において、この第1の背景技術に係るプラズマ滅菌装置は、大気圧でプラズマを発生させるプラズマ発生器112を備えた第1のチャンバー114と、被処理物136を配置しうるとともに耐圧構造の第2のチャンバー118と、両者を開閉自在に連結し、第1のチャンバーから第2のチャンバー118内へ供給する殺菌因子を含んだ気体の流れを制御する開閉バルブ120と加圧装置であるコンプレッサー122とを備えた連結管124とからなる。第2のチャンバー118には、チャンバー118内の気体を吸排することにより内部の気圧を一定に保つ圧力調整器116が連結されている。プラズマ発生器112においては、パルス電源を用いて気体と液体の混合物の少なくとも一部を電離させることができ、かくして得られた電離混合物が殺菌因子となる。



このように被処理物136を滅菌する第2のチャンバー118とは別に殺菌因子を貯留するための第1のチャンバー114を備え、両者を開閉バルブ120を備えた連結管124で連結することにより、滅菌に必要な殺菌因子の貯留と、被処理物の乾燥等の前処理とを平行して行うことができ、さらに、相当量の殺菌因子を短時間で被処理物に接触させることができるため、有効な滅菌処理を効率よく行い得る。



また、図6において第2の背景技術に係るプラズマ滅菌装置は、蓋202を開放して、真空容器201に殺菌しようとする容器218を入れ、次に蓋202を閉じて真空ポンプ204により真空容器内をプラズマを発生させる時の圧力より充分低くなるまで排気し、次いで気体源214から適当な流量で気体を導入し、弁215を調整してプラズマに適した圧力に保持する。一方真空ポンプ204が運転を続けて、圧力を安定させた後高周波電源212から、電極208に高周波電力を印加して容器218内にプラズマを発生させ、充分な殺菌が行なわれる時間プラズマを保持した後、高周波電力の印加を停止して容器218の殺菌を行う構成である。また、この高周波電力の印加停止と同時に気体の導入を停止し、しばらく排気してから真空ポンプの運転を停める。そして次に大気導入弁217を開いて大気を導入し、その後蓋202を開いて容器218を取り出す。
【特許文献1】
特開平10-99415号公報
【特許文献2】
特許第3209944号公報

産業上の利用分野


本発明は、活性酸素により医療器材等の被処理物を滅菌するプラズマ滅菌装置に関し、特に酸素ガスプラズマ中で生成した酸素ラジカルにより被処理物を滅菌するプラズマ滅菌装置に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
滅菌処理の対象となる被処理物を収納し、気密性容器からなる収納手段と、
前記収納手段内の気圧を低気圧に維持すると共に、当該低気圧下で前記収納手段の気密性容器内における酸素ガスの圧力を3Paから10kPaまでの間で複数回変化させる低気圧維持手段と、
前記収納手段に酸素ガスを供給する酸素ガス供給手段と、
前記収納手段内に少なくとも電極が収納され、当該電極に電流を流して前記酸素ガスの酸素をプラズマ化して酸素ラジカルを生成するプラズマ生成手段とを備えることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。

【請求項2】
前記請求項1に記載のプラズマ滅菌装置において、
前記低気圧維持手段が、前記収納容器内を3Paないし10kPaに維持することを
特徴とするプラズマ滅菌装置。

【請求項3】
前記請求項1又は2に記載のプラズマ滅菌装置において、
前記低気圧維持手段が、前記収納手段の気密性容器内における酸素ガスの圧力を3Paと10kPaとを1分ないし10分毎に繰り返し変化させることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。

【請求項4】
前記請求項1ないし3のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記プラズマ生成手段が、誘導結合プラズマ発生手段により構成されることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。

【請求項5】
前記請求項1ないし4のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記プラズマ生成手段が、電極に交流電流を供給され、当該交流電流の周波数を起動当初に1kHzないし20kHzとし、起動後10MHzないし60MHzとすることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。

【請求項6】
前記請求項1ないし5のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記酸素ガス供給手段が、供給する酸素ガスの流量を10sccmから500sccmの間で複数回変化させることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。

【請求項7】
前記請求項1ないしのいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記酸素ガス供給手段が、供給する酸素ガスの流量を10sccmと500sccmとを1分ないし10分毎に繰り返し変化させることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。

【請求項8】
前記請求項1ないしのいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記収納手段に収納される被処理物が、酸素ラジカルを透過するシートで被覆されることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2004203419thum.jpg
出願権利状態 登録
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