TOP > 国内特許検索 > 微細凹凸形成方法

微細凹凸形成方法

国内特許コード P06P003780
掲載日 2006年12月8日
出願番号 特願2005-148587
公開番号 特開2006-320872
登録番号 特許第5283819号
出願日 平成17年5月20日(2005.5.20)
公開日 平成18年11月30日(2006.11.30)
登録日 平成25年6月7日(2013.6.7)
発明者
  • 朝倉 浩一
  • 黒田 章裕
  • 武重 日香里
  • 石原 司
出願人
  • 学校法人慶應義塾
発明の名称 微細凹凸形成方法
発明の概要

【課 題】
材料の表面に凹凸及び微細凹凸を形成させるための表面処理剤及び処理された材料、及び凹凸及び微細凹凸を形成させるための表面処理方法を提供する。さらに詳しくは、材料の表面に微細凹凸を形成させることで、高い撥水性を持つガラス、レンズ、繊維等の材料や、汚染防止能に優れた材料、光散乱性に優れたパネル、光ファイバー等の照明、アンテナ、電線、鉄塔等の積雪、防雪、つらら対策材料・塗料、半導体基盤表面の凹凸形成等に有用で、加工も容易である高い撥水性表面処理方法を提供する。
【解決手段】
平均0.1~1.0mmの間隔を有する凹凸構造を有する凹凸構造の表面に、さらに周期0.1~50μmの範囲にある微細凹凸構造を有することを特徴とする表面により達成される。
【選択図】 なし

従来技術、競合技術の概要


従来、各種材料の表面に微細な凹凸を形成させる試みが各種なされている。例えば塗膜から成分を溶出させて凹凸を形成させる方法(特許文献1)、平均細孔径200nm以下の微細な細孔を設けた塗膜とその製造方法(特許文献2)、100nm~2μmの微小多孔を有する膜構造体とその製造方法(特許文献3)、励起粒子ビームを用いる方法(非特許文献1)、メッキ、フラクタル型構造の形成(非特許文献2)を用いる方法等が報告されている。




【特許文献1】特開2001-017907号公報

【特許文献2】特開2001-152138号公報

【特許文献3】特開2001-207123号公報

【特許文献4】特願2004-053791号公報

【非特許文献1】http://www.jvia.gr.jp/j/shinkusangyo/shiryou/thinfilmworld/film23.pdf

【非特許文献2】T. Onda, S. Shibuichi, N. Satoh, K. Tsujii, Langmuir, 12, 2125-2127(1996)

【非特許文献3】Kondepudi, D. K. & Prigogine, I.; Modern Thermodynamics -From Heat Engines to Dissipative Structures-, John Wiley & Sons, New York, Chap. 19: Dissipative Structures, pp. 427-457. (1998),参照)

産業上の利用分野


本発明は、フィンガリング不安定性を利用した凹凸及び微細凹凸構造を有する表面及びその凹凸及び微細凹凸形成方法に関する。
さらに詳しくは、材料の表面に凹凸及び微細凹凸を形成させることで、高い撥水性を持つガラス、レンズ、繊維等の材料や、汚染防止能に優れた材料、光散乱性に優れたパネル、光ファイバー等の照明、アンテナ、電線、鉄塔等の積雪、防雪、つらら対策材料・塗料、導体基盤表面の凹凸形成、光触媒を併用して触媒効果を向上させる凹凸表面基材材料、排気ガス処理触媒の比表面積向上等に有用で、加工も容易であることを特徴とする高い撥水性表面を対象として繰り返し再現性のある凹凸及び微細凹凸形成方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
表面に天然ゴム、ジエン系ゴム又は非ジエン系ゴムを薄くコーティング又は固定させて柔軟にした金属ブロックを基材表面に接するように互いに密着させ、その間隙に表面処理剤を満たし、該ブロックを移動させながら、含有される撥水化処理超微粒子の平均一次粒子径が1~50nm、及び/又は表面処理剤中の該撥水化処理超微粒子の含有比率が2~60質量%である表面処理剤を基材上に塗布する際に、フィンガリング不安定性を生じさせることにより気液界面に凹凸構造を形成させ、さらにこの気液界面から揮発性物質を蒸発又は基材を繰り返し水浴させることにより基材表面上に微細凹凸の周期が0.1~50μmの微細凹凸構造を形成することを特徴とする微細凹凸形成方法。
産業区分
  • 塗料・接着剤
  • 高分子化合物
  • 光学装置
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

15177_01SUM.gif
出願権利状態 権利存続中
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、下記問合せ先にご相談下さい。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close