TOP > 国内特許検索 > 粒子線照射装置

粒子線照射装置

国内特許コード P07A009852
整理番号 NIRS-224
掲載日 2007年5月11日
出願番号 特願2005-025361
公開番号 特開2006-212081
登録番号 特許第4348470号
出願日 平成17年2月1日(2005.2.1)
公開日 平成18年8月17日(2006.8.17)
登録日 平成21年7月31日(2009.7.31)
発明者
  • 古川 卓司
  • 野田 耕司
出願人
  • 放射線医学総合研究所
発明の名称 粒子線照射装置
発明の概要 【課題】 照射野形成磁石の最大偏向角で決まる照射野サイズを実効的に大きくできる粒子線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 加速器で加速された荷電粒子ビーム3を照射野形成電磁石2により走査させながら照射野を形成する粒子線照射装置1において、照射野形成電磁石2を荷電粒子ビーム3の入射軸Dを中心として所定の角度に回動させる回動手段6を備え、照射野形成電磁石2は荷電粒子ビーム3を入射軸Dの方向に直交するX方向に偏向させる第1の電磁石4と、入射軸方向に直交しX方向とは異なるY方向に偏向させる第2の電磁石5とを備えることを特徴とする構成とした。
【選択図】 図1
従来技術、競合技術の概要 【背景技術】近年、陽子や炭素イオン等の粒子線を照射する粒子線照射装置が癌の治療に用いられ、高い治療成績を挙げている。 粒子線照射装置では、図6に示すように、磁力線の方向が互いに直交するX方向の電磁石101、Y方向の電磁石102からなる照射野形成電磁石103の中心に荷電粒子ビーム104を入射して、二台の電磁石の磁力を調整して荷電粒子ビーム104の進行方向を入射軸に対して偏向させることにより照射野を形成する。照射野の形成方法には大別して、拡大照射野形成法と三次元スポットスキャニング法の2種がある。 拡大照射野形成法はX、Y方向二台の電磁石に交流電流を流してビーム径が1cm程度の荷電粒子ビームを標的(癌)上に走査することにより、広い範囲に荷電粒子ビームを照射して拡大照射野を形成する方法である。荷電粒子ビームをタンタル、鉛等の散乱体に通過させて、荷電粒子のビーム径を拡大する方法が併用される場合もある。拡大照射野形成法の一例として、非特許文献1には、照射野の半径の半分程度の散乱半径を有する小さなビーム径の荷電粒子ビームを、照射野形成電磁石によって標的上の半径が大きな第1の円軌道に沿って所定回数回転させ、次にこの荷電粒子ビームを第1の円軌道よりも半径が小さい第2の円軌道に沿って再度所定回数回転させる粒子線照射装置が紹介されている。三次元スポットスキャニング法は、標的を三次元的に複数のスポットに分け、パルス状荷電粒子ビームをスポット毎に順次照射して行く方法である。荷電粒子ビームを照射する位置の制御は、X、Y方向二台の電磁石と、加速器から出射される荷電粒子ビームのエネルギの強弱調整とによって行なわれる。 特許文献1には、三次元スポットスキャニング法の従来技術として、アルミニウムの棒片を複数組み合わせたリッジフィルタを用いて荷電粒子ビームの進行方向についてのブラッグピーク分布を拡大し、荷電粒子ビームの照射位置を位置モニタで確認しながらスポット毎に照射する三次元スポットスキャニング法が示されている。更に特許文献1には、リッジフィルタを構成する各棒片の形状関数が、厚さ最小の位置から最大の位置までに変曲点を持ち、且つ厚さ最小の位置から変曲点までの距離が厚さ最大の位置から変曲点までの距離よりも小さいリッジフィルタを備える粒子線照射装置を用いた三次元スポットスキャニング法が示されている。
【特許文献1】特開2001-61978号公報(段落0008~0019、0046~0056)
【非特許文献1】Timothy R.Renner、"Wobbler Facility for biological experiments"、Medical Physics、14巻、1987年、p825-834
産業上の利用分野 本発明は、医療用の粒子線照射装置に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 加速器で加速された荷電粒子ビームを照射野形成電磁石により走査させながら照射野を形成する粒子線照射装置において、 前記照射野形成電磁石を前記荷電粒子ビームの入射軸を中心として所定の角度に回動させ、前記荷電粒子ビームの照射対象の標的をリサージュ図形による照射野の範囲内に入れる回動手段を備え、 前記照射野形成電磁石は、 それぞれ、交流電流を流し、前記荷電粒子ビームを前記入射軸方向に直交するX方向に偏向させて前記リサージュ図形を描くように照射する第1の電磁石と、前記荷電粒子ビームを前記入射軸方向に直交し前記X方向とは異なるY方向に偏向させて前記リサージュ図形を描くように照射する第2の電磁石とを有する ことを特徴とする粒子線照射装置。
【請求項2】 前記第1の電磁石と前記第2の電磁石とにそれぞれ前記回動手段が設けられ、前記第1の電磁石と前記第2の電磁石とが各々独自に回動可能である ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。
【請求項3】 拡大照射野形成法またはスポットスキャニング法で前記照射野を形成することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の粒子線照射装置。
産業区分
  • 治療衛生
  • 原子力
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
放医研が保有する特許に、ご関心のある企業等はお問合せ下さい。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close