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多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法

国内特許コード P07A010195
整理番号 5
掲載日 2007年8月8日
出願番号 特願2001-252559
公開番号 特開2003-064207
登録番号 特許第3551319号
出願日 平成13年8月23日(2001.8.23)
公開日 平成15年3月5日(2003.3.5)
登録日 平成16年5月14日(2004.5.14)
発明者
  • 上原 徹
出願人
  • 学校法人島根大学
発明の名称 多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法
従来技術、競合技術の概要
従来,疎水性材料の例としてのポリエチレンでは,その表面の親水性化は,混酸を塗布することによって行われたり,又は材料表面を火炎処理によって行われている。また,シート状材料は,コロナ放電処理によって材料表面が親水性化されている。
【0003】
従来,プラズマCVD膜の形成方法は,例えば,特開平5-287007号公報に開示されている。該公報に開示されたものは,大気圧近傍の圧力下でグロー放電を発生させる第1領域とモノマーガスを導入し,基体上にプラズマCVD膜を形成させる第2領域とを別個に画成し,第1領域で不活性ガス雰囲気下でグロー放電を発生させ,グロー放電により活性化したガスをモノマーガス雰囲気下の第2領域に導入して該第2領域においてプラズマCVD膜を形成させるものであり,大気圧グロー放電を用いて放電電極の電極間距離に制約されることなく,所望の大きさの立体的な基体上にプラズマCVD膜を形成させるものである。
【0004】
また,特開平6-41214号公報に開示されたプラズマ開始重合法は,モノマーを含む蒸気にイオン化ガスプラズマを発生させることにより,該モノマーの重合を開始させ,プラズマの非存在下で重合の大部分を完結させるものであり,イオン化ガスプラズマの発生を0.2~3気圧の圧力で行うものである。
産業上の利用分野
この発明は,シート状材料等の多孔質材料表面をプラズマを用いて親水性化する多孔質材料表面の乾式表面処理方法に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】酸化エチレン,メタクリル酸等の親水性ビニルモノマーを大気圧プラズマ重合法によって多孔質材料表面上でそのポリマーを生成させ,前記多孔質材料表面上に前記ポリマーの被覆層を生成して前記多孔質材料表面を親水性化にすることから成る多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法であって, 前記大気圧プラズマ重合に商用交流電源周波数を使用することから成る多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法。
【請求項2】二酸化炭素,窒素ガス等の不活性ガスを用いることにより,ペニング効果を利用することから成る請求項1に記載の多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法。
【請求項3】前記多孔質材料は,疎水性のポリエチレンフィルムであることから成る請求項1又は請求項2に記載の多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法。
産業区分
  • 高分子化合物
  • その他繊維
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
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