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光学活性α-アミノオキシケトン誘導体及びその製造方法

国内特許コード P07A010255
掲載日 2007年8月16日
出願番号 特願2004-235479
公開番号 特開2006-008649
登録番号 特許第4617114号
出願日 平成16年8月12日(2004.8.12)
公開日 平成18年1月12日(2006.1.12)
登録日 平成22年10月29日(2010.10.29)
優先権データ
  • 特願2003-300367 (2003.8.25) JP
  • 特願2004-153944 (2004.5.24) JP
発明者
  • 林 雄二郎
  • 庄司 満
出願人
  • 学校法人東京理科大学
発明の名称 光学活性α-アミノオキシケトン誘導体及びその製造方法
発明の概要

【課題】高い収率で、高いエナンチオ選択性で対応するα-アミノオキシケトンを製造する方法の提供。
【解決手段】 下記一般式(2)で表されるケトンに、一般式(3)で表されるニトロソ化合物を一般式(4)で表されるプロリン又はプロリン誘導体の存在下反応させることを特徴とする一般式(1)で表される光学活性α-アミノオキシケトン誘導体の製造方法。
【化1】

[式中、R1及びR2は、アルキル、アルケニル又はアルキニル基を示すが、R1とR2が一緒になって、環を形成してもよい。R3は、アリール、ヘテロ環、アルキル、アルケニル又はアルキニル基を示す。Aは水素原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基又は置換基を有していてもよいシリルオキシ基を示す。]
【選択図】 なし

従来技術、競合技術の概要


従来、α-ヒドロキシケトンは、ケトンを一旦対応するエノラート又はその等価体に変換後、ジアステレオ選択的な反応、又はエナンチオ選択的な反応によって合成されてきた(非特許文献1参照)。
このような方法の例としては、ケトンをリチウムエノラートに導いたのち、酸化剤として光学活性なオキサジリジンを作用させる方法(特許文献2~8参照)、不斉触媒反応として、ケトンをエノ-ルエーテルに変換後、不斉ジヒドロキシル化を行なう方法(非特許文献9~10参照)、更に不斉エポキシ化を行なう手法(非特許文献10~14)が知られている。
上述の通り、これらの方法ではケトンを一旦対応するエノラート又はエノラート等価体に変換する必要があり、また、触媒的不斉酸化反応では高い不斉収率が達成される基質が限られているという問題点があった。さらに、不斉触媒反応では環境に有害な金属塩を用いる必要があるといった問題もあった。



最近ケトンをスズエノラートに変換後,光学活性な活性化剤を触媒量用いるニトロソベンゼンを用いた不斉触媒化反応によるα―アミノオキシケトンの合成法が報告された(非特許文献15)。
α-アミノオキシケトンは、容易にα―ヒドロキシケトンに変換できるため、この手法は、有用なα―ヒドロキシケトン合成法の一部となる。
しかし、この方法では、光学活性な触媒は、少量ですむものの、ケトンを一旦スズエノラートに変換しなくてはならない点、スズ化合物に毒性がある点、用いる不斉をBINAPとAgOTfから調製しなくてはならない点等の問題があった。



かように、入手容易な不斉源を活性化剤とした不斉触媒反応によるケトンから直接光学活性α―ヒドロキシケトンを製造する優れた方法はなかった。また、実用に耐える高い収率、不斉収率で進行する製造法もなかった。すなわち、これまでケトンから光学活性α―ヒドロキシケトンへの効率的な製造方法は無かった。

【非特許文献1】ゾウら(Zhou,P.;Chen,B.C.;Davis,F.A.“Asymmetric Oxidation Reactions”,Katsuki,T.,Ed.;Oxford University Press:Oxford,2001;p 128)

【非特許文献2】ディヴィスら(Davis,F.A.;Chen,B.C.Chem.Rev.1992,92,919)

【非特許文献3】ディヴィスら(Davis,F.A.;Haque,M.S.J.Org.Chem.1986,51,4083)

【非特許文献4】チェンら(Chen,B.C.;Weismiller,M.C.;Davis,F.A.;Boschelli,D.;Empfield,J.R.;Smith,A.B.Tetrahedron 1991,47,173)

【非特許文献5】ディヴィスら(Davis,F.A.;Kumar,A.J.Org.Chem.1992,57,3337)

【非特許文献6】ディヴィスら(Davis,F.A.;Weismiller,M.C.;Murphy,C.K.;Reddy,R.T.;Chen,B.C.J.Org.Chem.1992,57,7274)

【非特許文献7】ディヴィスら(Davis,F.A.;Kumar,A.;Reddy,R.T.;Rajarathnam,E.;Chen,B.C.;Wade,P.A.;Shah,S.W.J.Org.Chem.1993,58,7591)

【非特許文献8】ディヴィスら(Davis,F.A.;Clark,C.;Kumar,A.;Chen,B.C.J.Org.Chem.1994,59,1184)

【非特許文献9】ハシヤマら(Hashiyama,T.;Morikawa,K.;Sharpless,K.B.J.Am.Chem.Soc.1993,115,8463)

【非特許文献10】ハシヤマら(Hashiyama,T.;Morikawa,K.;Sharpless,K.B.J.Org.Chem.1992,57,5067)

【非特許文献11】フクダら(Fukuda,T.;Katsuki,T.Tetrahedron Lett.1996,37,4389)

【非特許文献12】アダムら(Adam,W.;Rainer,T.F.;Stegmann,V.R.;Saha-Moller,C.R.J.Am.Chem.Soc.1998,120,708)

【非特許文献13】ジュら(Zhu,Y.;Yu,Y.;Yu,H.;Shi,Y.Tetrahedron Lett.1998,39,7819)

【非特許文献14】アダムら(Adam,W.;Fell,R.T.;Saha-Moller,C.R.;Zhao,C-G.Tetrahedron:Asymmetry 1998,9,397)

【非特許文献15】モミヤマら(Momiyama,N.;Yamamoto,H.J.Am.Chem.Soc.,2003,125,6038)

産業上の利用分野


医薬、農薬等に有用なα-ヒドロキシケトンに容易に変換し得るα-アミノオキシケトン誘導体及びこれが高い収率、高いエナンチオ選択性で得られる製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記一般式(2)で表されるケトンに、一般式(3)で表されるニトロソ化合物を一般式(4)で表されるプロリン又はプロリン誘導体の存在下反応させることを特徴とする一般式(1)で表される光学活性α-アミノオキシケトン誘導体の製造方法。
【化学式1】



[式中、R及びRは、アリール基又はヘテロ環基を置換基として有していてもよいアルキル、アルケニル又はアルキニル基を示すが、RとRが一緒になって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリール基又はヘテロ環基を置換基として有していてもよい、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ピペリジン、ピロリジン又はチアシクロヘキサン全体として形成してもよい。R3は、アルキル基、アルケニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール、ヘテロ環、アルキル、アルケニル又はアルキニル基を示す。Aは水素原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基又は、アルキル基、アリール基若しくはアルケニル基を置換基として有していてもよいシリルオキシ基を示す。]

【請求項2】
一般式(4)中、Aが、アルキル基、アリール基若しくはアルケニル基を置換基として有していてもよいシリルオキシ基である請求項1記載の製造方法。

【請求項3】
一般式中、Aが、tert-ブチルジメチルシリルオキシ基又はトリイソプロピルシリルオキシ基である請求項1記載の製造方法。

【請求項4】
下記一般式(2)で表されるケトンに、一般式(3)で表されるニトロソ化合物を一般式(4’)で表されるプロリン又はプロリン誘導体の存在下反応させることを特徴とする一般式(1’)で表される光学活性α-アミノオキシケトン誘導体の製造方法。
【化学式2】



[式中、R1及びR2は、アリール基又はヘテロ環基を置換基として有していてもよいアルキル、アルケニル又はアルキニル基を示すが、RとRが一緒になって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリール基又はヘテロ環基を置換基として有していてもよい、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ピペリジン、ピロリジン又はチアシクロヘキサン全体として形成してもよい。Rは、アルキル基、アルケニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール、ヘテロ環、アルキル、アルケニル又はアルキニル基を示す。Aは水素原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基又は、アルキル基、アリール基若しくはアルケニル基を置換基として有していてもよいシリルオキシ基を示す。]

【請求項5】
一般式(4’)中、Aが、アルキル基、アリール基若しくはアルケニル基を置換基として有していてもよいシリルオキシ基である請求項記載の製造方法。

【請求項6】
一般式中、Aが、tert-ブチルジメチルシリルオキシ基又はトリイソプロピルシリルオキシ基である請求項4記載の製造方法。

【請求項7】
下記のいずれかで表される光学活性α-アミノオキシケトン誘導体又はその鏡像異性体。
【化学式3】
産業区分
  • 有機化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 権利存続中
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