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光学活性塩素化合物の製造方法 コモンズ

国内特許コード P07A010291
掲載日 2007年8月24日
出願番号 特願2005-113068
公開番号 特開2006-290789
登録番号 特許第4644805号
出願日 平成17年4月11日(2005.4.11)
公開日 平成18年10月26日(2006.10.26)
登録日 平成22年12月17日(2010.12.17)
発明者
  • 融 健
  • 柴田 哲男
出願人
  • 学校法人名古屋工業大学
発明の名称 光学活性塩素化合物の製造方法 コモンズ
発明の概要

【課題】光学純度が高い光学括性α-塩素化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式(1)
R1-Xn-CO-CHR2W(式中Rl及びR2は,鎖状または環状の炭化水素基などを表し,Xはアルキレン基などを示し,Wは電子吸引基を示す。nは0または1を示す。)で表される化合物を,一般式(2)MLrsc(式中,Lは不斉配位子を示し,Mは遷移金属を示し,Aは水または中性配位子を示し,Dはアニオン性配位子または対アニオンを示し,rは1または2,Sは0,1,2,4,または6,Cは0,1,または2である。)で表される不斉遷移金属錯体触媒の存在下に一般式(3)RfSO2Cl(式中Rfはペルフルオロアルキル基を示す)で表されるペルフルオロアルキルスルホニルクロリド類を反応させ、一般式(4)R1-Xn-CO-C*ClR2W(式中R,R,Wは前記定義と同じ,C*は不斉炭素)で表される光学活性塩素化合物誘導体を製造する。
【選択図】なし

従来技術、競合技術の概要


従来から光学活性な有機塩素化合物の合成についていろ
いろと研究されてきた。例えば光学活性塩素化合物の製造方法として,従来,クロロコハク酸イミドなどの塩素化剤にBOX-Phなどのオキサゾリジン類の光学活性触媒と銅,ニッケル,亜鉛などの金属錯体,あるいはプロリンやキナアルカロイド誘導体などを用いて,対応するカルボアニオン化合物に反応させることにより,光学活性な塩素炭素結合を有するクロロアルキルカルボニル化合物を製造する方法が知られている((a) Hintermann, L.; Togni, A. Helv. Chim. Acta 2000, 83, 2425. (b) Wack, H.; Taggi, A. E.; Hafez, A. M.; Drury, W. J., III.; Lectka, T. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 1531. (c) Marigo, M.; Kumaragurubaran, N.; Jorgensen, K. A. Chem. Eur. J. 2004, 10, 2133. (d) Brochu, M. P.; Brown, S. P.; MacMillan, D. W. C. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 4108. (e) Halland, N.; Braunton, A.; Bachmann, S.; Marigo, M.; Jorgensen, K. A. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 4790. (f) Zhang, Y.; Shibatomi, K.; Yamamoto, H. J. Am. Chem. Soc, 2004, 126, 15038.)。

産業上の利用分野


この発明は,特定の遷移金属錯体触媒を利用した特定の光学括性な塩素合物(以下,α-塩素化合物という)の製造方法にする。さらに詳しくは,この発明は,医薬,農薬,あるいは多くの汎用化学品の合成中間体等として有効を上記α-塩素化合物の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
一般式(1)

R1-Xn-CO-CHR2-W

(式中Rl及びR2は,各々独立して,置換基を有してもよい鎖状または環状の炭化水素基,置換基を有してもよい複素環基,換基を有してもよいアルコキシ基,置換基を有してもよいアミノ基,置換基を有してもよいアシルオキシ基を示し,Rl及びR2のどちらかは水素原子でもよい。Xはアルキレン基,=N-H,=N-R3,=N-OH,=N-O-R4,酸素原子を示し,R3及びR4は,各独立して,置換基を有してもよい鎖状または環状の炭化水素基もしくは置換基を有してもよい複素環基を示し,Wは電子吸引基を示す。nは0または1を示し,RlとR2,RlとW,またはR2とWはそれぞれ共に結合して環を形成してもよい。)

で表される化合物を,下記一般式(2)

MLrsc
(式中,Lは不斉配位子を示し,Mは遷移金属を示し,Aは水または中性配位子を示し,Dはアニオン性配位子または対アニオンを示し,rは1または2,Sは0,1,2,4,または6,Cは0,1,または2である。)

で表される不斉遷移金属錯体触媒の存在下に下記一般式(3)

RfSO2Cl
(式中,Rfはペルフルオロアルキル基を示し,Rf中のペルフルオロアルキル基とは炭素数が1から10の,水素がフッ素で置換された枝分かれがあっても良いアルキル基またはシクロアルキル基が好ましい。)

で表されるペルフルオロスルホニルクロリドと反応させることを特徴とする,一般式(4)

R1-Xn-CO-C*ClR2-W
(Rl,R2,X,,Wは,各々,前記と同様のものを示す)

で表される光学括性塩素化合物の製造方法。


【請求項2】
ペルフルオロアルキルスルホニルクロリド類がトリフルオロメチルスルホニルクロリドである請求項1記載の製造方法。

【請求項3】
不斉配位子が不斉窒素系配位子である請求項1記載の光学活性塩素素化合物の製造方法。

【請求項4】
遷移金属錯体が第8~11族の金属の錯体である請求項1記載の光学活性塩素化合物の製造方法

【請求項5】
Wがアルコキシカルポニル基,アリ-ルオキシカルポニル基,アミノカルポニル基,アシル基,ホルミル基であり,それぞれの基は置換基を有していてもよい請求項1記載の光学活性塩素化合物の製造方法。

【請求項6】
Rlが,水素原子,あるいは置換基を有していてもよい低級アルキル基,脂環族炭化水素基,芳香族炭化水素基から選ばれる基である請求項1記載の光学括性塩素化合物の製造方法。

【請求項7】
Rlが水素原子あるいは置換基を有していてもよい低級アルキル基,脂環族炭化水素基,芳香族炭化水素基から選ばれる基であり,Wがアルコキシカルポニル基,アリ-ルオキシカルポニル基,アミノカルポニル基,アシル基,ホルミル基であり,それぞれの基は置換基を有していてもよい請求項1記載の光学括性塩素化合物の製造方法。
産業区分
  • 有機化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 権利存続中
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