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磁性薄膜の形成方法

国内特許コード P07A010604
整理番号 NI0500042
掲載日 2007年10月4日
出願番号 特願2005-289874
公開番号 特開2007-103568
登録番号 特許第4734635号
出願日 平成17年10月3日(2005.10.3)
公開日 平成19年4月19日(2007.4.19)
登録日 平成23年5月13日(2011.5.13)
発明者
  • 森迫 昭光
  • 劉 小晰
出願人
  • 国立大学法人信州大学
発明の名称 磁性薄膜の形成方法
発明の概要 【課題】 情報をきわめて高密度に記録することを可能にする磁性薄膜を簡易に製造可能とする磁性薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 FexPt1-xからなる磁性微小粒子が非磁性マトリックス中にドットアレイ状に形成された磁性薄膜の形成方法であって、Feと非磁性材からなるターゲットを用いたスパッタリングを施して、下地10上に、前記非磁性材からなるマトリックス24中にFeがドットアレイ22に形成された薄膜20を成膜する工程と、前記薄膜20にPt30をスパッタリングし、前記ドットアレイ24に形成されたFeに選択的にPtを拡散させ、前記非磁性材からなるマトリックス24中に、FexPt1-xからなるドットアレイ24aが形成された磁性薄膜を形成する工程とを有する。
【選択図】 図6
従来技術、競合技術の概要


情報を高速かつ高い信頼性で記録し活用するものとして、磁気記録再生技術を使用した磁気ディスク装置が広く利用されている。磁気ディスク装置に使用されているハードディスクの記録密度は、現在は約133G(ビット/平方インチ)であり、2010年には500(ビット/平方インチ)になると予想されている。
このような背景のもとで現在注目されている磁気記録媒体が、パターンドメディアと呼ばれる自己配列型の磁性体ドットアレイであるIBM社は、FeとPtとを含む2種類のポリマーを反応させ、FexPt1-x からなる合金粒子の周りをポリマーが覆ったコロイドを生成し、これを基板に塗布して熱処理することによりFexPt1-x の磁性粒子が一定間隔で並んだドットアレイを形成した(非特許文献1参照)。
【非特許文献1】
Science,2000.3.17.Vol.287,pp1989

産業上の利用分野


本発明は磁性薄膜の形成方法に関し、より詳細には、FePtM(MはCuまたはAg)規則合金薄膜として磁性薄膜を形成する磁性薄膜の形成方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
FexPt1-xからなる磁性微小粒子が非磁性マトリックス中にドットアレイ状に形成された磁性薄膜の形成方法であって、
Feと非磁性材からなるターゲットを用いたスパッタリングを施して、下地上に、前記非磁性材からなるマトリックス中にFeのドットアレイが形成された薄膜を成膜する工程と、
前記薄膜を加熱した状態で前記薄膜にPtをスパッタリングし、前記ドットアレイに形成された各々のFeドットにPtを拡散させ、前記非磁性材からなるマトリックス中に、FexPt1-xからなるドットアレイが形成された磁性薄膜を形成する工程と
を有することを特徴とする磁性薄膜の形成方法。

【請求項2】
前記ターゲットとして、FeとCuからなるターゲットを使用し、Cuのマトリックス中にFeのドットアレイが形成された薄膜を形成し、
次いで、前記薄膜を加熱した状態で前記薄膜にPtをスパッタリングして、Cuのマトリックス中に、FexPt1-xからなるドットアレイが形成された磁性薄膜を形成することを特徴とする請求項1記載の磁性薄膜の形成方法。

【請求項3】
前記ターゲットとして、FeとAgからなるターゲットを使用し、Agのマトリックス中にFeのドットアレイが形成された薄膜を形成し、
次いで、前記薄膜を加熱した状態で前記薄膜にPtをスパッタリングして、Agのマトリックス中に、FexPt1-xからなるドットアレイが形成された磁性薄膜を形成することを特徴とする請求項1記載の磁性薄膜の形成方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2005289874thum.jpg
出願権利状態 登録
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