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低交流損失酸化物超電導導体の製造方法

国内特許コード P07A010926
整理番号 /NO33568
掲載日 2007年10月26日
出願番号 特願2005-334988
公開番号 特開2007-141688
登録番号 特許第4777749号
出願日 平成17年11月18日(2005.11.18)
公開日 平成19年6月7日(2007.6.7)
登録日 平成23年7月8日(2011.7.8)
発明者
  • 鈴木 賢次
  • 星 三郎
  • 松田 潤子
  • 和泉 輝郎
  • 塩原 融
  • 岩熊 成卓
出願人
  • 公益財団法人鉄道総合技術研究所
  • 国立大学法人九州大学
  • 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 低交流損失酸化物超電導導体の製造方法
発明の概要 【課題】本発明は、分断した個々のフィラメント導体どうしの絶縁性を高めることができ、低交流損失の酸化物超電導体を得ることができる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、基体1上に酸化物超電導層6が設けられてなる低交流損失超電導導体Aにおいて、前記酸化物超電導層6が、前記基体1の長さ方向に沿って前記基体の幅方向に複数形成された細線化溝3により複数のフィラメント導体2に分離されてなり、前記細線化溝3に高抵抗酸化物8が形成されてなることを特徴とする。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


超電導線は直流通電用途と交流通電用途があり、モータや変圧器などの交流応用機器に超電導線を利用する場合は、第2種超電導体と称されるものを利用するので超電導体への磁束の侵入を一部許すことになり、交流損失が必然的に発生する。この交流損失を低減するための技術として、従来から実用化されている金属系超電導線材あるいは化合物系酸化物超電導線においては、押出工程や引抜工程あるいは圧延工程において多芯構造として超電導線を細線化し、微細な超電導フィラメントを形成するとともに、多芯化の際に超電導フィラメント間に高抵抗のバリア層などを配置して超電導フィラメント間の高抵抗化を行ってきた。(非特許文献1参照)
【非特許文献1】
J. Yoo, J. Ko, H, Kim, and H. Chung, "Fabrication Twisted Mutifilamenttary BSCCO2223 Tapes by Using HighResistive Sheath for AC Application, " IEEE Transactions on Applied Superconductivity, 9 (2):2163-2166 (June 1999).

産業上の利用分野


本発明は、交流通電時の損失低減を図った構造の酸化物超電導導体の製造方法に関し、特に基材上に酸化物超電導層を有する形式の酸化物超電導導体について、酸化物超電導層を複数に分割した構造を採用して交流損失の低減を図る技術の改良に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
基材上に酸化物超電導層または基材上に酸化物超電導層及び安定化層が設けられてなる酸化物超電導導体に対し、前記酸化物超電導体表面に対して斜め方向からレーザを前記基材の長さ方向に沿って照射して前記酸化物超電導層をその幅方向に複数に分断する細線化溝を前記基材に達するように形成し、前記細線化溝の内側に付着した溶融凝固物を加熱し酸化して高抵抗化することを特徴とする低交流損失酸化物超電導導体の製造方法。

【請求項2】
前記酸化物超電導層に対して前記レーザを照射するとともに、前記レーザ照射部分に対してパージガスを吹き付け、レーザによる溶融物を前記パージガスにより部分的に吹き飛ばしつつ前記細線化溝を形成し、前記酸化物超電導層を前記細線化溝を介して分断することを特徴とする請求項に記載の低交流損失酸化物超電導導体の製造方法。

【請求項3】
前記酸化物超電導体表面に対して斜め方向からレーザを照射する際、照射角度を超電導体表面の法線に対して0゜~45゜の範囲とすることを特徴とする請求項1または2に記載の低交流損失酸化物超電導導体の製造方法。

【請求項4】
前記溶融凝固物を酸素含有雰囲気中にて酸化する場合、400℃~800℃の範囲で熱処理することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の低交流損失酸化物超電導導体の製造方法。

【請求項5】
前記基材がNi合金からなり、前記酸化した溶融凝固物がNiOを含む酸化物であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の低交流損失酸化物超電導導体の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2005334988thum.jpg
出願権利状態 登録
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