TOP > 国内特許検索 > 置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法

置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法

国内特許コード P07A011758
整理番号 359-654
掲載日 2007年11月22日
出願番号 特願2001-028660
公開番号 特開2002-226430
登録番号 特許第4759722号
出願日 平成13年2月5日(2001.2.5)
公開日 平成14年8月14日(2002.8.14)
登録日 平成23年6月17日(2011.6.17)
発明者
  • 小槻 日吉三
  • 小島 智行
  • 大石 健
  • 山本 泉
  • 松岡 達臣
出願人
  • 国立大学法人高知大学
発明の名称 置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法
発明の概要 【課題】 各種工業原料、例えば医薬品、機能性材料などの原料として有用な置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの効果的な製造方法を提供すること。
【解決手段】 次式で示される低級アルコキシ置換芳香族カルボン酸エステル(I)にグリニヤール試薬(RMgX)を反応させて、該グリニヤール試薬由来の置換基を有する芳香族カルボン酸エステル(II)を得る工程を包含する、置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法:
【化1】ここで、Rは分枝アルキル基であり、Rは低級アルキル基、そしてRはアルキル基、アリール基または脂環式基、そしてXはハロゲンである。
従来技術、競合技術の概要
各種工業原料、医薬品などに有用なアルキル置換あるいはアリール置換芳香族化合物が製造されている。芳香環上に、例えば、求核置換反応により置換基を導入する方法としては、ニトロ基のような強い電子吸引性の活性基を有する芳香族化合物を用いることが知られている。しかし、このような化合物は反応の適用範囲が限られており、取り扱いの利便性にも欠けるという欠点がある。
【0003】
Meyersらは、芳香環上にオキサゾリニル基を活性基として有するo-ジメトキシベンゼンの一方のメトキシ基をグリニヤール試薬を用いてアルキル基に置換する方法を報告している(J. Org. Chem., 43, 1372-1379, 1978)。
【0004】
【化3】
【0005】
上記オキサゾリニル基に比較して、その導入や除去のより容易なエステル基を有する芳香族化合物を用いた方法もまた、知られている。例えば、電子吸引性の活性基であるエステル基(アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル基など)とメトキシ基などのアルコキシ基とを有する芳香族化合物において、該アルコキシ基を芳香族求核置換反応により、アルキル基、アリール基などに特異的に置換する方法が知られている。服部らは、o-メトキシ安息香酸エステルのエステル部分に立体的に嵩高い基を選択し、該安息香酸エステルのメトキシ基をフェニル基に置換する反応を報告している(有機合成化学協会誌、55, 121-131, 1997)。
【0006】
【化4】
【0007】
ここでRは、2,6-ジ-t-ブチル-4-メトキシフェニル、2,6-ジ-t-ブチル-4-イソプロピルフェニルなどの嵩高い基である。
【0008】
これらの反応によりアルキル置換あるいはアリール置換芳香族化合物、特に、アルキルまたはアリール置換基を有する芳香族カルボン酸エステルが製造される。しかし、この方法においては、カルボキシル基の反応性を押さえるために非常に立体障害の大きい基を保護基として用いているため、例えば、この保護基を脱離させるには厳しい条件を必要とする。
【0009】
このように、置換基を有する芳香族化合物、特に置換基を有する芳香族カルボン酸エステルのより効果的で簡便な方法が求められている。
産業上の利用分野
本発明は、置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法に関する。さらに詳細には、低級アルコキシ置換芳香族カルボン酸エステルの芳香環上に存在する低級アルコキシ基を、グリニヤール試薬を用いて所望の基に置換することにより、置換基を有する芳香族カルボン酸エステルを簡便に得る方法に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 次式で示される低級アルコキシ置換芳香族カルボン酸エステル(I)にグリニヤール試薬(RMgX)を反応させて、該グリニヤール試薬由来の置換基を有する芳香族カルボン酸エステル(II)を得る工程を包含する、置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法:
【化学式1】
ここで、Rは分枝アルキル基であり、Rは低級アルキル基、そしてRはアルキル基、アリール基または脂環式基、そしてXはハロゲンである。
【請求項2】 前記Rがt-ブチル基またはトリエチルカルビニル基である請求項1に記載の方法。
【請求項3】前記Rがメチル基である請求項1または2に記載の方法。
産業区分
  • 有機化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

18702_01SUM.gif
出願権利状態 権利存続中
四国TLOは四国内20大学・高専のシーズをご紹介しております。シーズの詳細内容につきましては下記までお問い合わせください。
お問い合わせをお待ちしております。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close