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電波吸収体 新技術説明会

国内特許コード P08A013357
掲載日 2008年4月25日
出願番号 特願2005-271200
公開番号 特開2007-087977
登録番号 特許第4815174号
出願日 平成17年9月16日(2005.9.16)
公開日 平成19年4月5日(2007.4.5)
登録日 平成23年9月2日(2011.9.2)
発明者
  • 岡野 好伸
  • 安井 裕史
出願人
  • 学校法人五島育英会
発明の名称 電波吸収体 新技術説明会
発明の概要

【課題】 多周波の周波数帯域の電波を吸収できる電場吸収体を提供する。
【解決手段】 導電体から構成された導体箔20と、抵抗体から構成された電波吸収材21との間に、これらと対向する中間層22を設けている。中間層22に、導電体で形成され、中央部には導体箔20から電波吸収材21側に貫通した孔が形成された中間膜22aをマトリクス状に配置するとともに、中間膜22aの孔の位置に、導体で構成された中間膜22bを配置している。このようにすると、中間層22が1つであっても、例えば3箇所の周波数帯域の電波を吸収することができ、反射を抑制することができる。
【選択図】 図1

従来技術、競合技術の概要


オフィスや工場等において、情報交換に無線LAN(Local Area Network)が使用されている。しかし、無線LANを単純に導入しただけでは、電磁波が外部に漏れて機密情報が外部に漏洩したり、電磁波がオフィスや工場の壁・天井等で反射することにより、空間内に反射波が減衰せずに残存して、通信環境を悪化させ、符号誤り率が高くなったり、情報伝達レートが低下したりする場合がある。



上記問題点に対応するために、1/4λ型電波吸収体や、特許文献1に示された多周波帯対応電波吸収体が開発されている。

【特許文献1】特開2004-140194号公報



1/4λ型電波吸収体は、無線通信で使用する電磁波を吸収するものであり、金属箔と、その金属に1/4λ(λは吸収対象電磁波の波長)の間隔を置いて対向した抵抗膜で構成されている。抵抗膜は、電気抵抗体を塗布したフィルムまたは布で形成されている。



特許文献1の多周波帯対応電波吸収体は、図13に示すように、方形の導体箔13と、導体箔13に対向して配置された方形の抵抗被膜15と、導体箔13と抵抗被膜15の間に配置された導体層17とを備えている。
抵抗被膜15は、導体箔13とほぼ等しいサイズで、金属の酸化物を塗布したフィルム又は布等から構成される。導体層17は、複数の導体膜17aがマトリクス状に配置させて構成される。各導体膜17aは、導体箔13と同様、電波の完全反射体から構成される。

産業上の利用分野


本発明は、電波吸収体に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
導電体から構成された反射膜と、
抵抗体から構成されて前記反射膜に対峙する吸収材と、
前記反射膜と前記吸収材との間に位置して該反射膜及び吸収材に対向する中間層と、
導電体で形成されて前記中間層に配置され、前記反射膜及び吸収材に対向すると共に、中央部には該反射膜側から吸収材側に貫通した孔が形成された第1の中間膜と、
導電体で形成され、前記中間層の前記第1の中間膜の前記孔の位置に配置されて、前記反射膜及び吸収材に対向する第2の中間膜と、
を備えることを特徴とする電波吸収体。

【請求項2】
前記第1の中間膜の前記孔の位置に配置された前記第2の中間膜の中央部には前記反射膜側から前記吸収材側に貫通した孔が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電波吸収体。

【請求項3】
前記第1の中間膜の前記孔の位置に配置された前記第2の中間膜は、複数であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電波吸収体。

【請求項4】
前記第1の中間膜の前記孔の位置には、外径の異なる複数の前記第2の中間膜が配置され、
前記各第2の中間膜の中央部には前記反射膜側から前記吸収材側に貫通した孔がそれぞれ形成され、外径の小さい第2の中間膜が外径の大きな第2の中間膜の孔の位置に順次配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電波吸収体。

【請求項5】
導電体で形成され、前記外径が最小の第2の中間膜の孔の位置に配置され、前記反射膜及び吸収材に対向する第3の中間膜を備えることを特徴とする請求項4に記載の電波吸収体。

【請求項6】
前記第1の中間膜と前記第2の中間膜とから構成されるパターンが、前記中間層にマトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電波吸収体。

【請求項7】
前記第1の中間膜と前記第2の中間膜と前記第3の中間膜から構成されるパターンが、前記中間層にマトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項5に記載の電波吸収体。
産業区分
  • 伝送方式
  • 高分子化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2005271200thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
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