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光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー コモンズ 新技術説明会

国内特許コード P08A014012
整理番号 P06-032
掲載日 2008年10月31日
出願番号 特願2006-093877
公開番号 特開2007-269853
登録番号 特許第4631059号
出願日 平成18年3月30日(2006.3.30)
公開日 平成19年10月18日(2007.10.18)
登録日 平成22年11月26日(2010.11.26)
発明者
  • 高原 茂
  • 鈴木 昭太
出願人
  • 国立大学法人 千葉大学
発明の名称 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー コモンズ 新技術説明会
発明の概要 【課題】レーザーダイレクトイメージング技術などに用い光開始系として、酸素阻害の影響がなく、自由度の高い高感度光酸発生系を提供する。
【解決手段】増感剤とオキシム系光酸発生剤が光電子移動を起こし、オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンから反応が開始される高感度増感光酸発生材料。ピロメテン系色素を増感剤とし、オキシム系光酸発生剤とした高感度増感光酸発生材料。光電子移動反応などによってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが、N-O結合付近にラジカルスピン密度が局在化し、それにより、結合開裂が高効率で生じる該オキシム系光酸発生剤。上記高感度光酸発生材料を組み込んだフォトリソグラフィー材料。これらを用いた、光パターニング、光リソグラフィー。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


例えば、画像形成技術である光リソグラフィー材料とその加工プロセスは、半導体加工、配線用レジスト、印刷製版などにおいて広く実用化に供されている。これらのフォトリソグラフィーのプロセスでは、感光性樹脂材料を用いて目的に応じた膜をシリコン基板や陽極酸化したアルミニウム板などの上に形成する。これにマスクなどを用いることや、レーザー光の走査によりパターンを光照射し、感光性樹脂膜の光照射された領域で光重合または光架橋反応、脱保護反応などを起こすことによって膜材料の溶解度の差を生じさせ、現像によってパターン形成を行っているのが一般的である。これらのプロセスでは、光ラジカル発生剤や光酸発生剤、光塩基発生剤を膜中に用い、光照射した部位においてラジカルや酸、塩基など化学的活性種を生成させる。さらに引き続き、モノマーの重合反応または架橋剤の分子間の架橋、保護基の脱離など共有結合の形成や開裂により、感光性樹脂材料の現像液に対する溶解度差を得るものである。



一方、半導体加工、配線用レジスト、印刷製版のパターンの微細化や高速化、多様なパターニングの必要性に伴い、露光は、可視光源、紫外光ランプ以外にも、例えば、アルゴンイオンレーザーや半導体レーザーを走査させ、エキシマーレーザーにより感光させるようになっている。



そこで、特に印刷製版などの感光性を高めるために、増感色素、例えば、クマリン系増感色素とオキシエーテル系光ラジカル発生剤を用いた高感度2分子光ラジカル発生材料とそれを用いた光重合性組成物が用いられている。(特許文献1)



【特許文献1】
特許第3672126号公報

産業上の利用分野


本発明は、一般的な光硬化材料や光記録材料、印刷版及びプリント基板製造の応用分野、例えば、レーザーダイレクトイメージングによるパターン形成、または光リソグラフィーの応用分野、例えば、半導体加工、配線用レジスト、印刷用感光材料に最適なフォトリソグラフィー材料および光パターン形成への応用などに広く用いられる光を吸収することによって酸を発生する材料に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
ピロメテン系色素からなる増感剤とオキシム系光酸発生剤を含み、
光励起された前記ピロメテン系色素からなる増感剤から前記オキシム系光酸発生剤への電子移動によって前記オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンを発生させ、反応が開始されるフォトリソグラフィー材料。

【請求項2】
前記オキシム系光酸発生剤は、下記式で示される請求項1記載のフォトリソグラフィー材料。



【請求項3】
前記増感剤は、下記式で示される請求項1又は2記載のフォトリソグラフィー材料。



【請求項4】
請求項1に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光パターニング方法

【請求項5】
請求項1に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光リソグラフィー。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 登録
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