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光触媒酸化チタン膜およびその製造方法 コモンズ 新技術説明会

国内特許コード P08P006529
整理番号 07022P
掲載日 2008年12月12日
出願番号 特願2007-147634
公開番号 特開2008-297184
登録番号 特許第5273700号
出願日 平成19年6月4日(2007.6.4)
公開日 平成20年12月11日(2008.12.11)
登録日 平成25年5月24日(2013.5.24)
発明者
  • 福本 昌宏
  • 山田 基宏
出願人
  • 国立大学法人豊橋技術科学大学
発明の名称 光触媒酸化チタン膜およびその製造方法 コモンズ 新技術説明会
発明の概要 【課題】 二酸化チタン光触媒皮膜の形成において、有機バインダ等の結合剤を用いずに、大面積の基材に厚い膜を形成することにより、二酸化チタンの光触媒作用による、有機バインダの劣化が無く、長期間安定な光触媒皮膜を形成する。
【解決手段】 凝集した形態のアナターゼ型二酸化チタンを原料粉末とし、比較的低いガス圧力及び、アナターゼ型二酸化チタンの結晶変態温度以下の温度にて、原料粉末を加熱・加速し、基材上に衝突させることにより、基材上にアナターゼ型ニ酸化チタン光触媒皮膜を形成する。
【選択図】 図1
従来技術、競合技術の概要


光触媒酸化チタンはその有害物質除去、防汚、殺菌、防食に優れる物性を持つため、従来から建造物の外壁などへの表面塗布に用いられている。光触媒酸化チタンはこのように優れた物性を有する材料であることから、より幅広く利用するために、安価で大面積への厚膜形成技術の確立が要求されている。



これまでに報告されている光触媒酸化チタン膜作製技術としては、化学的手法としてチタンのアルコキシドを溶媒中に溶解させ、酸化雰囲気中で焼成する方法(例えば特許文献1参照)や二酸化チタン粉末のゾルから成膜する方法(例えば特許文献2参照)があり、建築物の外壁への塗布などで利用されている。



物理的手法としてスパッタリングによる皮膜形成(例えば特許文献3参照)、溶射法による成膜(例えば特許文献4、非特許文献1参照)、エアロゾルデポジション法による成膜(例えば特許文献5参照)があるが実用的にはほとんど用いられていない。コールドスプレー法による成膜の報告(例えば非特許文献2参照)もあるが実用的な膜を得るには至っていない。



【特許文献1】
特許2849177
【特許文献2】
特許2900307
【特許文献3】
特許2995250
【特許文献4】
特許公開公報 特開平11-47609
【特許文献5】
特許公開公報 特開2006-130703
【非特許文献1】
福本、鄭、鈴木、熱田、安井、溶接学会論文集、第22巻、第1号、 47-52、(2004)
【非特許文献2】
C.-J. Li, G.-J. Yang, X.-C. Huang, W.-Y. Li and A. Ohmori: Formation of TiO2 photocatalyst through cold spraying, Proceedings of International Thermal Spray Conference 2004, CD

産業上の利用分野


本発明は自動車の排気ガス等に含まれる有害物質である窒素酸化物の分解や防汚、防食特性が要求される高速道路の防音壁、建築物外壁および橋梁などの被覆に好適な光触媒酸化チタン膜、それを被覆した部材及びそれらの製造方法にかかわるものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
アナターゼ型二酸化チタン粒子を高温・高圧で吹きつけることにより成膜する光触媒酸化チタン膜の製造方法、において、前記、アナターゼ型ニ酸化チタン粒子が、一次粒径が0.1nm~1μmのアナターゼ型二酸チタンを凝集させた粒径1μm~100μmの二次粒子であり、かつ高温・高圧ガス発生部からの供給ガス圧力が0.3MPa~1.0MPaであり、かつ高温・高圧ガス発生部からの供給ガスの温度が200℃以上800℃以下、であることを特徴とする製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2007147634thum.jpg
出願権利状態 登録
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