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光触媒皮膜の製造方法

国内特許コード P08A014221
掲載日 2009年2月13日
出願番号 特願2006-157564
公開番号 特開2007-325995
登録番号 特許第4905659号
出願日 平成18年6月6日(2006.6.6)
公開日 平成19年12月20日(2007.12.20)
登録日 平成24年1月20日(2012.1.20)
発明者
  • 藤野 隆由
出願人
  • 学校法人近畿大学
発明の名称 光触媒皮膜の製造方法
発明の概要

【課題】基板の単位面積当たりの二酸化チタンの反応表面積が大きいために高い光触媒能を発揮できる光触媒皮膜を提供すること。
【解決手段】多孔性の陽極酸化皮膜2の表面及び孔21の内面に形成された、光触媒能を有する二酸化チタン、からなることを特徴とする光触媒皮膜3である。
【選択図】図1

従来技術、競合技術の概要


近年、光触媒は、環境分野やエネルギー分野で有効に利用できるため、非常に注目されている。具体的には、光触媒は、例えばNOx等の有害物を分解できるので、環境浄化の手段として利用できる。また、光触媒は、例えばチタニアナノアレイや色素増感太陽電池等に利用できる。



ところで、光触媒の一つとして注目されている二酸化チタンは、粒子として合成される。しかし、粒子の二酸化チタンは、取扱いが不便であり、また、使用後の回収が困難である。そこで、二酸化チタンを基板に固定して光触媒皮膜として使用することが、一般に行われている。その固定法としては、スパッタリング法やスラリー法やゾルゲル法(特許文献1参照)が知られている。



一方、二酸化チタンを光触媒皮膜として使用する場合には、取扱いは便利となるが、二酸化チタンの、光に反応する表面積(以下、「反応表面積」と称する)が、二酸化チタンを粒子のままで使用する場合に比して、減少してしまい、それ故、光触媒能が低くなる。

【特許文献1】特開2004-154779号公報

産業上の利用分野


本発明は、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜の製造方法に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】 [手続補正20110722]  多孔性の陽極酸化皮膜を、チタニル酸塩と、チタニルと陽イオン錯体を形成する錯化剤と、を含む混合浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンを析出させて二酸化チタン皮膜を形成する、チタニル電解処理工程と、 二酸化チタン皮膜を、焼成して、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜に変化させる、焼成処理工程と、を有し、 更に、上記チタニル電解処理工程の前に、 多孔性の陽極酸化皮膜を、金属塩の浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の孔中に、金属単体を析出させる、金属電解処理工程、を有しており、 上記焼成処理工程が、更に、熱拡散によって、金属単体を二酸化チタンに担持させるものである、ことを特徴とする光触媒皮膜の製造方法。
【請求項2】 [手続補正20110722]  陽極酸化皮膜として、アルミニウム、マグネシウム、チタン、又は各々の合金を、陽極酸化処理することによって、形成されたものを、用いる、請求項記載の光触媒皮膜の製造方法。
【請求項3】 [手続補正20110722]  チタニル酸塩として、硫酸チタニルを用いる、請求項1又は2に記載の光触媒皮膜の製造方法。
【請求項4】 [手続補正20110722]  錯化剤として、シュウ酸を用いる、請求項1~3のいずれか一つに記載の光触媒皮膜の製造方法。
【請求項5】 [手続補正20110722]  金属塩として、白金、金、パラジウム、ルテニウム、銀、スズ、マンガン、銅、コバルト、又はニッケルの、塩を用いる、請求項1~4のいずれか一つに記載の光触媒皮膜の製造方法。
産業区分
  • その他無機化学
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2006157564thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
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