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回転発射装置 新技術説明会

国内特許コード P08A014289
整理番号 NI0600015
掲載日 2009年3月13日
出願番号 特願2006-318457
公開番号 特開2008-131993
登録番号 特許第5023329号
出願日 平成18年11月27日(2006.11.27)
公開日 平成20年6月12日(2008.6.12)
登録日 平成24年6月29日(2012.6.29)
発明者
  • 水野 勉
  • 堀内 学
  • 大橋 義納
  • 西本 誉
出願人
  • 国立大学法人信州大学
発明の名称 回転発射装置 新技術説明会
発明の概要 【課題】鋼球の発射に関してアミューズメント性を加えており、遊戯面に打ち出された球が遊戯者に視覚的な趣向を与える機構を提供する。
【解決手段】鋼球が非接触で発射される様子を目視できることでアミューズメント性が向上し、さらに鋼球に磁気的に垂直力を与えることによって、レールとの摩擦を生じさせて回転を加えて発射することで、遊戯面に射出された球が釘に弾かれてランダムに運動して、遊戯面により多くの球を残すことができる。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要 EMLは磁性体を瞬間的な電磁力の作用によって非接触で発射させる装置である。EMLの用途の一つとしてパチンコ機の遊戯球発射装置(特許文献1参照)がある。従来鋼球の発射は回転モータ、リニアアクチュエータ、またはモータとばねなどを用いて槌によって機械的に打ち出すものであった(特許文献2参照)。パチンコ台は遊戯面に液晶画面などによる様々な演出や趣向(特許文献3参照)が施されているのに対して、鋼球の発射には全く趣向が凝らされていない。これに対して特開2004-351088では鋼球を回転発射することで遊戯面に球を多く残し、アミューズメント性を追求している。これはレールと接触した状態で鋼球を台座に保持して、始端位置から終端位置までレール上をスライド移動して、鋼球に回転を与えて発射する機械式の回転発射装置であった。

【特許文献1】特開2003-159387号公報
【特許文献2】特開2003-033481号公報
【特許文献3】特開2003-030679号公報

産業上の利用分野 本発明は、電磁ランチア(以下、EMLと略記)の発射機構に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
左右に相対して配置された第1および第2の磁極からなるギャップを有するコアと、
前記第1および第2の磁極のいずれか一方に挿入されたくまとりコイルと、
前記磁極に沿ってギャップ中に配置されたレールと、
前記ギャップをはさんで前記コアに巻きつけた2つのコイルを有し、
前記2つのコイルは巻き数が異なる発射装置。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2006318457thum.jpg
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