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有機単分子膜成膜装置及び該方法

国内特許コード P09A014426
整理番号 834
掲載日 2009年5月8日
出願番号 特願2005-220458
公開番号 特開2007-031812
登録番号 特許第4590560号
出願日 平成17年7月29日(2005.7.29)
公開日 平成19年2月8日(2007.2.8)
登録日 平成22年9月24日(2010.9.24)
発明者
  • ▲桑▼島 修一郎
  • 石田 謙司
  • 堀内 俊壽
  • 松重 和美
出願人
  • 学校法人京都大学
発明の名称 有機単分子膜成膜装置及び該方法
発明の概要

【課題】 本発明は、真空中で蒸着原料を蒸発させ基板に被着させて有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置及び該方法を提供する。
【解決手段】 本発明の係る、真空引きされる真空チャンバ11内に蒸着原料Aを収容し、蒸着原料Aを加熱源17により加熱して蒸発させ、真空チャンバ11内に保持した基板B上に蒸発した蒸着原料Aによる有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置1は、基板Bを冷却する冷却源12と、基板Bにおける有機単分子膜を形成すべき領域Cから蒸発源としての坩堝16の開口部16-1を見た場合に、蒸着中、蒸発源が見えないように隠す遮蔽板15とを備えることを特徴とする。
【選択図】 図1

従来技術、競合技術の概要


近年、有機薄膜を利用した電子デバイスの研究、開発が鋭意為されている。有機薄膜として鎖状低分子の有機単分子膜を利用する場合、その作製方法は、自己組織化法とLB(Langmuir-Blodgett)法とが主に知られている。この自己組織化法は、例えば真空蒸着法によって金Auの薄膜を形成した基板を、硫黄原子Sを含む有機分子を溶かした溶液に浸す方法である。これによって硫黄原子が金の薄膜表面に化学結合し、自己組織化単分子膜(Self-Assembled Monolayer、SAM)が金の薄膜表面上に形成される(例えば、非特許文献1及び非特許文献2)。また、LB法は、疎水性の部分と親水性の部分とを有する有機分子を水面上に展開及び圧縮することによって水面上に単分子膜(L膜)を形成し、水面に基板を通過させることによって水面上の単分子膜を基板表面に移し取る方法である(例えば、非特許文献3及び非特許文献4)。

【非特許文献1】Abraham Ulman,”Formation and Structure of Self-Assembled Monolayers”,Chem Rev.Vol.96,(1996),pp1533-1554

【非特許文献2】Ralph G.Nuzzo and David L.Allara,”Adsorption of Bifunctional Organic Disulfides on Gold Surfaces”,Journal of the American Chemical Society,Vol.105,(1983),pp4481-4483

【非特許文献3】Irving Langmuir,”The Constitution and Fundamental Properties of Solids and Liquids.II.Liquids.”,Journal of the American Chemical Society,Vol.39,(1917),pp1848-1906

【非特許文献4】Katharine B. Blodgett,”Films Built by Depositing Successive Monomolecular Layers on a Solid Surface”,Journal of the American Chemical Society,Vol.57,(1935),pp1007-1022

産業上の利用分野


本発明は、真空中で蒸着原料を蒸発させ基板に被着させて有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置及び有機単分子膜成膜方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
真空引きされる成膜室内に蒸着原料を収容し、前記蒸着原料を加熱手段により加熱して蒸発させ、前記成膜室内に保持した基板上に前記蒸発した蒸着原料による有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置において、
前記基板を冷却する冷却源と、
前記基板における前記有機単分子膜を形成すべき領域から蒸発源を見た場合に、蒸着中、前記蒸発源が見えないように隠す遮蔽部材とを備えること
を特徴とする有機単分子膜成膜装置。

【請求項2】
前記蒸着原料は、フッ化ビニリデンオリゴマーであること
を特徴とする請求項1に記載の有機単分子膜成膜装置。

【請求項3】
冷却した基板上に、有機単分子膜の蒸着原料を真空中において、前記基板における前記有機単分子膜を形成すべき領域から蒸発源を見た場合に、蒸着中、前記蒸発源が見えないように隠す遮蔽部材を介して蒸着すること
を特徴とする有機単分子膜成膜方法。
産業区分
  • 表面処理
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2005220458thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
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