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ラジカル滅菌装置 新技術説明会

国内特許コード P09S000215
整理番号 H17-001
掲載日 2009年7月31日
出願番号 特願2007-526782
登録番号 特許第5007386号
出願日 平成17年7月28日(2005.7.28)
登録日 平成24年6月8日(2012.6.8)
国際出願番号 JP2005013858
国際公開番号 WO2007013160
国際出願日 平成17年7月28日(2005.7.28)
国際公開日 平成19年2月1日(2007.2.1)
発明者
  • 佐藤 三郎
  • 林 信哉
出願人
  • 国立大学法人佐賀大学
発明の名称 ラジカル滅菌装置 新技術説明会
発明の概要

【課題】 ヒドロキシ(OH)ラジカル及び酸素(O)ラジカルを高密度に発生させて被処理物を確実且つ安価に滅菌することができるラジカル滅菌装置を提供する。
【解決手段】 医療器具6を収納する収納手段1を低気圧維持手段2により低気圧に維持し、この収納手段1に水蒸気ガス発生手段3から水蒸気ガスを供給し、この水蒸気ガスの酸素をラジカル生成手段4がラジカル化してヒドロキシ(OH)ラジカル及び酸素(O)ラジカルを生成するようにしているので、ヒドロキシ(OH)ラジカル及び酸素(O)ラジカルを長時間単体として維持させると共に、高密度に発生させることができることとなり、医療器具6を確実且つ安価に滅菌できる。
【選択図】 図1

従来技術、競合技術の概要


背景技術となるプラズマ滅菌装置は、特開平10-99415号公報(第1の背景技術)、特開平7-18461号公報(第2の背景技術)に開示されるものがある。この各背景技術を図5及び図6に概略構成断面図として示す。
図5において、この第1の背景技術に係るプラズマ滅菌装置は、大気圧でプラズマを発生させるプラズマ発生器112を備えた第1のチャンバー114と、被処理物136を配置しうるとともに耐圧構造の第2のチャンバー118と、両者を開閉自在に連結し、第1のチャンバーから第2のチャンバー118内へ供給する殺菌因子を含んだ気体の流れを制御する開閉バルブ120と加圧装置であるコンプレッサー122とを備えた連結管124とからなる。第2のチャンバー118には、チャンバー118内の気体を吸排することにより内部の気圧を一定に保つ圧力調整器116が連結されている。プラズマ発生器112においては、パルス電源を用いて気体と液体の混合物の少なくとも一部を電離させることができ、かくして得られた電離混合物が殺菌因子となる。



このように被処理物136を滅菌する第2のチャンバー118とは別に殺菌因子を貯留するための第1のチャンバー114を備え、両者を開閉バルブ120を備えた連結管124で連結することにより、滅菌に必要な殺菌因子の貯留と、被処理物の乾燥等の前処理とを平行して行うことができ、さらに、相当量の殺菌因子を短時間で被処理物に接触させることができるため、有効な滅菌処理を効率よく行い得る。



また、図6において第2の背景技術に係るプラズマ滅菌装置は、蓋202を開放して、真空容器201に殺菌しようとする容器218を入れ、次に蓋202を閉じて真空ポンプ204により真空容器内をプラズマを発生させる時の圧力より充分低くなるまで排気し、次いで気体源214から適当な流量で気体を導入し、弁215を調整してプラズマに適した圧力に保持する。一方真空ポンプ204が運転を続けて、圧力を安定させた後高周波電源212から、電極208に高周波電力を印加して容器218内にプラズマを発生させ、充分な殺菌が行なわれる時間プラズマを保持した後、高周波電力の印加を停止して容器218の殺菌を行う構成である。また、この高周波電力の印加停止と同時に気体の導入を停止し、しばらく排気してから真空ポンプの運転を停める。そして次に大気導入弁217を開いて大気を導入し、その後蓋202を開いて容器218を取り出す。

【特許文献1】特開平10-99415号公報

【特許文献2】特許第3209944号公報

産業上の利用分野


本発明は、ヒドロキシ(OH)ラジカルにより医療器材等の被処理物を滅菌するラジカル滅菌装置に関し、特に水蒸気ガスから生成したヒドロキシ(OH)ラジカルにより被処理物を滅菌するラジカル滅菌装置に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】滅菌処理の対象となる被処理物を収納し、気密性容器からなる収納手段と、
前記収納手段内の気圧を低気圧に維持する低気圧維持手段と、
前記収納手段と一体に同一の気密性容器で構成され、当該気密性容器内で直線状に複数のノズルが配設された拡散器を配設してなり、微少流量バリアブルニードルバルブを用いて液体の水を気化させて水蒸気ガスを発生させ、低気圧状態に維持された前記気密性容器内に、当該発生した水蒸気ガスを前記複数のノズルから拡散散布する水蒸気ガス発生手段と、
前記収納手段内に少なくともアンテナ線路からなる電極が前記複数のノズル近傍に沿って収納され、当該収納手段内に水蒸気ガスが供給された水蒸気雰囲気中で電極に電流を流して放電により前記水蒸気ガスの酸化水素を電離させてヒドロキシ(OH)ラジカル及び酸素(O)ラジカルを生成するラジカル生成手段とを備えることを
特徴とするラジカル滅菌装置。
【請求項2】前記請求項1に記載のラジカル滅菌装置において、
前記収納手段が、円筒状の筒体で形成され、
前記電極が、前記収納手段の筒体の中心軸に平行に複数屈曲して形成されるとともに、当該中心軸を中心として円弧状に配設される直線状のアンテナ線路からなり、
前記拡散器が、前記電極と前記収納手段内壁との間に配設されることを
特徴とするラジカル滅菌装置。
【請求項3】前記請求項1または2に記載のラジカル滅菌装置において、
前記水蒸気ガス発生手段における水蒸気ガス発生の気圧が、収納手段における気密性容器の内部気圧より高い気圧であって大気圧より低い気圧とされることを
特徴とするラジカル滅菌装置。
【請求項4】前記請求項1ないし3のいずれかに記載のラジカル滅菌装置において、
前記ラジカル生成手段が、電極に供給される電流により低気圧グロー放電を発生させることを
特徴とするラジカル滅菌装置。
【請求項5】前記請求項1ないし4のいずれかに記載のラジカル滅菌装置において、
前記ラジカル生成手段が、電極に供給される電流の周波数を1kHzないし10kHzとすると共に当該電極に印加される交流電圧を7kVないし13kVとして駆動されるこ
とを
特徴とするラジカル滅菌装置。
【請求項6】前記請求項1ないし5のいずれかに記載のラジカル滅菌装置において、
前記低気圧維持手段が、前記収納手段の気密性容器内において水蒸気ガスの圧力を1Paから1,000Paまで変化させることを
特徴とするラジカル滅菌装置。
【請求項7】前記請求項1、2、4ないし6のいずれかに記載のラジカル滅菌装置において、
前記水蒸気ガス発生手段の容器内気圧を10Paないし10,000Paとすると共に、前記収納手段の気密性容器内気圧を1Paないし1,000Paとし、
前記水蒸気ガス発生手段と収納手段との各気圧を比例させて増減させることを
特徴とするラジカル滅菌装置。
【請求項8】前記請求項1ないし7のいずれかに記載のラジカル滅菌装置において、
前記水蒸気ガスの発生時の容器内気圧を放電時の容器内気圧より高くし、当該水蒸気ガスの発生と放電によるヒドロキシ(OH)ラジカル及び酸素(O)ラジカルの発生とを交互に実行することを
特徴とするラジカル滅菌装置。
産業区分
  • 治療衛生
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
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