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原子状水素吸着除去方法およびその装置

国内特許コード P09A014870
掲載日 2009年12月4日
出願番号 特願2007-246691
公開番号 特開2008-031040
登録番号 特許第4788924号
出願日 平成19年9月25日(2007.9.25)
公開日 平成20年2月14日(2008.2.14)
登録日 平成23年7月29日(2011.7.29)
優先権データ
  • 特願2005-035392 (2005.2.14) JP
発明者
  • 並木 章
  • 和泉 亮
  • 鶴巻 浩
出願人
  • 国立大学法人九州工業大学
発明の名称 原子状水素吸着除去方法およびその装置
発明の概要

【課題】原子状水素を除去することができる原子状水素除去方法およびその装置を提供する。
【解決手段】原子状水素吸着除去方法は、インコネルを加熱することによりインコネルに吸着した原子状水素を脱離させる脱離工程と、インコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露することにより対象ガス中の原子状水素を吸着除去する吸着除去工程とを含む。原子状水素吸着除去装置は、インコネルとインコネルを加熱する加熱機構とからなる吸着除去部を備え、原子状水素を脱離した状態のインコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露して用いる。
【選択図】図1

従来技術、競合技術の概要


近年、半導体産業を中心に原子状水素を利用した基板の表面洗浄技術が注目を浴びている。また、薄膜堆積過程において、原料材料から発生する原子状水素が半導体デバイスの性能を決定することが明らかにされている。そのため、原子状水素の発生量を定量する技術および原子状水素の量を制御するための原子状水素を除去する技術が求められている。



原子状水素の定量を行う、古くから知られている簡便な方法として、特殊な硝子に原子状水素を照射し、ガラスが着色することを利用して、原子状水素の量を測る方法がある(例えば非特許文献1参照。)。しかしながら、この方法では、正確な原子状水素の量を測ることは困難である。
一方、原子状水素量を正しく測定する方法として、2光子レーザー誘起蛍光法や真空紫外吸収法がある(例えば非特許文献2参照。)。しかしながら、これらの方法は、いずれも大型のレーザー装置が必要となるため、装置構成が複雑になり、また装置コストが嵩んでしまうなどの問題がある。
また、原子状水素による結晶シリコン上の原子状重水素(D)の引き抜き反応を利用した定量法がある。この方法は、原子状重水素を用いることによって、バックグラウンドに存在している水素と区別できるため、比較的正しく原子状水素量を測定できることを特徴としている。(例えば非特許文献3、非特許文献4参照。)。しかしながら、この場合、結晶シリコンを超高真空中で洗浄しなくてはならないなど、取り扱いが困難である。また、定量の再現性が非常に悪く、一部の科学的研究目的のみで用いられている。

【非特許文献1】森本隆志, 米山浩司, 梅本宏信, 増田淳, 松村英樹, 石橋啓次, 俵山博匡, 川副博司, 酸化タングステン含有ガラスを用いたH原子密度の定量, 春季第51回応用物理学関係連合講演会、(東京)、 28P-ZE-1、2004年3月

【非特許文献2】H.Umemoto, K. Ohara, D. Morita, Y. Nozaki, A. Masuda, and H. Matsumura, DirectDetection of Atomic Hydrogen in the Catalytic Chemical Vapor Deposition of theSiH4/H2 System, J. Appl. Phys., 91, 3, 1650, 2002.

【非特許文献3】H. N.Waltenburug, J. T. Yates, Surface-chemistry of silicon, Chem. Reviews, 95, 5,1589 (1995).

【非特許文献4】S.Shimokawa, A. Namiki, T. Ando, Y. Sato, J. Lee, J. Chem. Phys., 112, 356(2000).

産業上の利用分野


本発明は、原子状水素吸着除去方法およびその装置に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
インコネル(登録商標)を加熱することによりインコネルに吸着した原子状水素を脱離させる脱離工程と、インコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露することにより対象ガス中の原子状水素を吸着除去する吸着除去工程とを含むことを特徴とする原子状水素吸着除去方法。

【請求項2】
インコネルとインコネルを加熱する加熱機構とからなる吸着除去部を備え、原子状水素を脱離した状態のインコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露して用いることを特徴とする原子状水素吸着除去装置。
産業区分
  • 無機化合物
  • 処理操作
  • その他無機化学
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2007246691thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
詳細は、下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


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