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無端状パターンの作製方法 新技術説明会

国内特許コード P10A015547
掲載日 2010年7月2日
出願番号 特願2009-038631
公開番号 特開2009-223310
登録番号 特許第5408649号
出願日 平成21年2月20日(2009.2.20)
公開日 平成21年10月1日(2009.10.1)
登録日 平成25年11月15日(2013.11.15)
優先権データ
  • 特願2008-039435 (2008.2.20) JP
発明者
  • 谷口 淳
出願人
  • 学校法人東京理科大学
発明の名称 無端状パターンの作製方法 新技術説明会
発明の概要 【課題】無端状モールド等に適用し得る無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射により作製する方法の提供。無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法の提供。無端状モールド、樹脂パターン成形品及び光学素子の提供。
【解決手段】本発明の無端状パターン作製方法は、電子ビーム又はイオンビームの照射により硬化又は可溶化する感応性基板を用いる場合には、円周方向で無端の感応性基板を回転方向に回転させる工程と、前記基板に所定の角度で電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、前記照射により又は前記照射後の現像により前記基板の一部を除去する工程とを有する。基板が感応性基板ではない場合、円周方向で無端の基板上に感応性膜を付与する。ビーム照射は、基板を回転方向に回転させながら行なっても、前記基板を回転させずに行なってもよい。但し後者の場合には照射していないときに基板を回転させる。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


ナノインプリント技術において、より一層の効率化、低コスト化、大面積化をはかる技術展開としてローラ転写方式が注目されている。



ローラ転写方式で用いられるモールドの従来の作製方法としては、めっきや樹脂などの微細パターンを有する膜を円筒状基板に巻き付ける方法や、機械加工による方法、レーザー加工による方法などが存在する。



しかし、前記巻き付けの方法では、つなぎ目が発生するという問題点がある。前記機械加工による方法では、加工工具が摩耗するため長時間加工すると形状が変化し、また溝状のパターンしか形成できない。前記レーザー加工の方法では、ビーム径をナノオーダーまで絞ることができず、ナノオーダーのパターンを有する無端状モールドの作製は困難である。



一方、電子ビームの照射方法としては、ディスクを回転させながら電子ビームを照射する方法(例えば、非特許文献1参照)や、曲面上に電子ビームを照射する方法(例えば、非特許文献2参照)が提案されている。

産業上の利用分野


本発明は、無端状モールドを形成できる無端状パターンの作製方法、無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法、これら製造方法によって得られる無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
円周方向において無端であり、電子ビーム又はイオンビームの照射によって硬化又は可溶化する基板を、回転方向に回転させる工程と、
前記基板の回転軸に向かって照射するときの入射角を0°としたときに、前記基板に所定の角度をつけて電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、
前記照射により又は前記照射後の現像により、前記基板の一部を除去する工程と、
を有する無端状パターンの作製方法。

【請求項2】
円周方向において無端であり、電子ビーム又はイオンビームの照射によって硬化又は可溶化する膜が付与された基板を、回転方向に回転させる工程と、
前記基板の回転軸に向かって照射するときの入射角を0°としたときに、前記膜に所定の角度をつけて電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、
前記照射により又は前記照射後の現像により、前記膜の一部を除去する工程と、
を有する無端状パターンの作製方法。

【請求項3】
前記基板を回転方向に回転させながら、前記電子ビーム又はイオンビームを照射することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項4】
前記電子ビーム又はイオンビームの走査方向及び走査速度、前記基板の移動方向及び移動速度、並びに前記基板の回転方向及び回転速度のうち少なくとも1つを調節して、パターンを描画することを特徴とする請求項3に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項5】
前記電子ビーム又はイオンビームの照射時に前記基板を回転させないことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項6】
前記電子ビーム又はイオンビームの前記基板に対する入射角が、30°以上80°以下であることを特徴とする請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項7】
前記電子ビーム又はイオンビームの前記基板に対する入射角が、40°以上80°以下であることを特徴とする請求項6に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項8】
前記電子ビーム又はイオンビームの前記基板に対する入射角を、基板の回転方向でプラス、逆回転方向でマイナスとしたとき、前記入射角が、-30°以上0°未満、又は0°より大きく+30°以下であることを特徴とする請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の無端状パターンの作製方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2009038631thum.jpg
出願権利状態 登録
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