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光学活性なスルホキシド化合物の製造方法

国内特許コード P10A015641
整理番号 QPN03008
掲載日 2010年8月31日
出願番号 特願2003-122404
公開番号 特開2004-323445
登録番号 特許第3962813号
出願日 平成15年4月25日(2003.4.25)
公開日 平成16年11月18日(2004.11.18)
登録日 平成19年6月1日(2007.6.1)
発明者
  • 香月 勗
  • 宮崎 高則
出願人
  • 国立大学法人九州大学
発明の名称 光学活性なスルホキシド化合物の製造方法
発明の概要

【課題】ニオブ錯体を触媒として用い、スルフィド化合物を不斉酸化して光学活性なスルホキシド化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】Nbを中心金属とし、下記式(I)及び式(II)の何れかで表される化合物を配位子とするNb(サレン)錯体を触媒として使用し、スルフィド化合物を尿素-過酸化水素付加物(UHP)で不斉酸化することを特徴とする光学活性なスルホキシド化合物の製造方法である。
【化1】

【化2】

(式(I)及び式(II)において、Rはそれぞれ独立して水素、炭素数6~12のアリール基、炭素数1~4のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基を示す。)
【選択図】 図1

従来技術、競合技術の概要
現在、不斉触媒反応は、有機合成化学の分野における主要なトピックの一つであり、様々な金属のキラル錯体の触媒作用が広く研究されている。その結果、種々の高エナンチオ選択的な反応プロセスが開発されてきた。しかしながら、金属の中にはその錯体を用いた不斉触媒反応が充分に開発されていなものが存在し、かかる金属の中の一つにニオブがある。
【0003】
ニオブは、窒素、サレン、ポリフィリンと錯体を形成することが報告されており(非特許文献1及び2参照)、ニオブ錯体の中には、ルイス酸や酸化触媒等としての触媒作用を示すものが存在することが知られている。しかしながら、ニオブ触媒を用いた不斉反応は、ディールス・アルダー反応やエポキシ化反応等に限られており、しかも、これらの反応におけるエナンチオ選択性はあまり高くない。
【0004】
一方、スルフィド化合物の不斉酸化反応(スルホキシド化反応)により、光学活性なスルホキシド化合物が得られることが知られており、該反応は医農薬品の合成において重要であるが、該反応に上述のニオブ錯体を触媒として使用した例は、これまで知られていない。
【0005】
【非特許文献1】
ホワース(Howarth)及びギレスピー(Gillespie),モレキュルズ(Molecules)[オンライン・コンピュータ・ファイル],2000年,第5号,p.993~997
【非特許文献2】
松田,坂本,コシマ及び村上,ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(J. Am, Chem. Soc.),1985年,107巻,p.6415~6416
産業上の利用分野
本発明は、光学活性なスルホキシド化合物の製造方法に関し、特にNb(サレン)錯体を触媒として使用する光学活性なスルホキシド化合物の製造方法に関するものである。なお、本発明の方法は、特に医農薬品の合成において有用である。
特許請求の範囲 【請求項1】 Nbを中心金属とし、下記式(I)及び式(II)の何れかで表される化合物を配位子とするNb(サレン)錯体を触媒として使用し、スルフィド化合物を尿素-過酸化水素付加物(UHP)で不斉酸化する光学活性なスルホキシド化合物の製造方法であって、
前記式(I)で表される化合物が下記式(III)及び式(IV)の何れかで表され、
前記式(II)で表される化合物が下記式(V)及び式(VI)の何れかで表されることを特徴とする光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化学式1】
【化学式2】
【化学式3】
【化学式4】
【化学式5】
【化学式6】
(I)、式(II)、式(III)、式(IV)、式(V)及び式(VI)において、R1はそれぞれ独立して水素、炭素数6~12のアリール基、炭素数1~4のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基を示す。]
【請求項2】 前記R1がフェニル基及び3,5-ジメチルフェニル基からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項3】 前記スルフィド化合物が下記式(VII)で表されることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化学式7】
(式中、R2は炭素数6~14のアリール基又は炭素数7~17のアラルキル基で;R3は炭素数1~15のアルキル基を示す。)
【請求項4】 前記スルホキシド化合物が下記式(VIII)で表されることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化学式8】
(式中、R2及びR3は上記と同義である。)
【請求項5】 前記R2が、p-メトキシフェニル基、p-ニトロフェニル基、p-ブロモフェニル基、p-クロロフェニル基、o-ブロモフェニル基、フェニル基及びベンジル基からなる群から選択され、前記R3が、メチル基及びエチル基からなる群から選択されることを特徴とする請求項3又は4に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項6】 溶媒に、Nb化合物と上記(III)、式(IV)、式(V)及び式(VI)の何れかで表される化合物とを加え混合した後、スルフィド化合物と尿素-過酸化水素付加物(UHP)とを加えることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項7】 前記(III)、式(IV)、式(V)及び式(VI)の何れかで表される化合物の使用量が、前記Nb化合物中のNb元素1molに対し1~2molであることを特徴とする請求項6に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項8】 -20℃~40℃で不斉酸化することを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
産業区分
  • 有機化合物
  • その他無機化学
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2003122404thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
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