TOP > 国内特許検索 > 電子照射による濡れ性の制御方法

電子照射による濡れ性の制御方法 新技術説明会

国内特許コード P000000826
整理番号 U1997P024
掲載日 2001年11月26日
出願番号 特願平09-269164
公開番号 特開平11-090217
登録番号 特許第3081913号
出願日 平成9年9月17日(1997.9.17)
公開日 平成11年4月6日(1999.4.6)
登録日 平成12年6月30日(2000.6.30)
発明者
  • 三浦 浩治
出願人
  • 国立大学法人愛知教育大学
発明の名称 電子照射による濡れ性の制御方法 新技術説明会
発明の概要 材料表面の濡れ性を制御する方法に関する発明である。
材料の表面に電子を照射して、材料表面の表面結晶格子状態を保ちながら水に対する濡れ性を制御することを特徴とする電子照射による濡れ性の制御方法である。
この電子照射は、低照射量、低エネルギーであるため、表面結晶構造は変化しないままで濡れ性を変化させることができる。従って、材料の表面特性として求められる他の特性を全て満足させることのできる表面コーティングの開発などに利用できる。
水同様の相互強さを有する水溶液に対する濡れ性の制御にもこの発明を適用できる。さらに、この発明は、電子照射により材料表面の濡れ性を局所的に変化させることができるため、水溶液による材料表面の局所的な洗浄、エッチングに適用できる。
材料としては、NaF 、LiF 、NaClといったアルカリハライドばかりでなく、ガラス材料として重要な SiNxや SiOxなどの金属酸化物のように、電子照射により表面の相互作用が変化できるものであればよい。
また、電子の照射量は、1nm平方当たり1~2個、照射エネルギーが30eV以下であることが望ましい。
従来技術、競合技術の概要 材料表面の、水に対する濡れ性は、産業上重要な特性である。
このような材料表面の濡れ特性は、マクロ的には材料表面と水との表面張力により左右され、一般に、材料と水との接触角が大きいほど溌水性があるとされている。したがって、表面の濡れ特性を変えるために、一般には、疎水性や親水性のある材料を選択することが行われている。
しかし、疎水性や親水性のある材料を試行錯誤的に調査するのは、膨大な労力を要するばかりでなく、要求する濡れ特性が得られたとしても材料の表面特性として求められる他の特性を全て満足させるとは限らなかった。また、材料内部と材料表面との物性が必ずしも同じにはならないので、いろいろな問題が多く残されていた。
したがって、材料内部の力学的性質を維持しながら、表面特性のみを変えるという視点から、表面コーティング技術が盛んに行われている。しかし、表面の濡れ特性の機構は複雑なため、コーティング技術としては不十分であり、また、材料の表面特性として求められる他の特性を全て満足させ得るとは限らなかった。
産業上の利用分野 表面コーティング、表面改質、トライボロジーなどに関わる、材料の濡れ性を制御することのできる方法
防曇ガラスや微細構造のケミカルエッチングといった分野に適用できる
濡れにくいガラスの表面改質の開発や、傷のつきにくい材料の開発
摩擦特性の改変に役立つ
特許請求の範囲 【請求項1】材料の表面に電子を照射して、材料表面の表面結晶格子状態を保ちながら水に対する濡れ性を制御することを特徴とする電子照射による濡れ性の制御方法。

【請求項2】材料がアルカリハライドである請求項1記載の電子照射による濡れ性の制御方法。

【請求項3】材料がNaFである請求項1記載の電子照射による濡れ性の制御方法。

【請求項4】電子の照射量が、1nm平方当たり1~2個、照射エネルギーが30eV以下である請求項1~3のいずれか一項に記載の電子照射による濡れ性の制御方法。
産業区分
  • 処理操作
  • 窯業
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

02639_01SUM.gif
出願権利状態 権利存続中
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、問合せボタンを押してください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close