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ホスホン酸類縁体の製造方法、及び触媒 コモンズ

国内特許コード P100000154
整理番号 E076P118
掲載日 2009年4月3日
出願番号 特願2009-060120
公開番号 特開2010-209049
登録番号 特許第5135264号
出願日 平成21年3月12日(2009.3.12)
公開日 平成22年9月24日(2010.9.24)
登録日 平成24年11月16日(2012.11.16)
発明者
  • 小林 修
  • 山下 恭弘
出願人
  • 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 ホスホン酸類縁体の製造方法、及び触媒 コモンズ
発明の概要 【課題】光学活性なプロリン類縁体(ホスホン酸類縁体)を提供する。
【解決手段】α-アミノホスホネート類縁体とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸類縁体を製造する方法であって、前記反応は下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる。一般式[I]



一般式[II]MX[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


α‐アミノホスホン酸エステルから誘導されるSchiff塩基と、α,β-不飽和カルボニル化合物との不斉[3+2]付加環化反応は、光学活性なプロリン類縁体(ホスホン酸類縁体)を合成する為に、有益である。そして、光学活性なプロリン類縁体(ホスホン酸類縁体)は、様々な生理活性を示す。従って、前記不斉[3+2]付加環化反応は、創薬の観点から、興味深い。

産業上の利用分野


本発明は、例えば光学活性なプロリン類縁体のホスホン酸類縁体に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[I]


[一般式[I]中、R,R、RとRとによって、-O-(CH-O-(n=1,2)が構成される基である。Rは、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]


[一般式[III]中、Rはアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R,RはH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。Rはアルコキシ基である。]

【請求項2】
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物と下記の一般式[Z]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[I]


[一般式[I]中、R,Rは、とRとによって、-O-(CH-O-(n=1,2)が構成される基である。Rは、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、MはCu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[Z]
NY
[一般式[Z]中、NはLi,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。YはH,OR,NR又はN(SiR(R=炭化水素基)である。]
一般式[III]


[一般式[III]中、Rはアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R,RはH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。Rはアルコキシ基である。]

【請求項3】
一般式[II]のXがClO,BF,PF,NO,F,Cl,Br,I,SOR,OCOR,OR,NR又はN(SiR(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。

【請求項4】
一般式[III]のはフェニル基を有する基、R,RはH又は炭素数が1~10のアルキル基、Rは炭素数が1~10のアルコキシ基である
ことを特徴とする請求項1~請求項3いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。

【請求項5】
α,β-不飽和カルボニル化合物が下記の一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1~請求項4いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[IV]



[R,R,R10はH、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。R11アルコキシ基である。]

【請求項6】
一般式で表される化合物により構成される錯体の存在下で反応が行われる
ことを特徴とする請求項1~請求項5いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。

【請求項7】
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式[I]


[一般式[I]中、R,Rは、とRとによって、-O-(CH-O-(n=1,2)が構成される基である。Rは、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]



[一般式[III]中、Rはアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R,RはH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。Rはアルコキシ基である。]

【請求項8】
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物と下記の一般式[Z]で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式[I]


[一般式[I]中、R,Rは、とRとによって、-O-(CH-O-(n=1,2)が構成される基である。Rは、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、MはCu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[Z]
NY
[一般式[Z]中、NはLi,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。YはH,OR,NR又はN(SiR(R=炭化水素基)である。]

一般式[III]


[一般式[III]中、Rはアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R,RはH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。Rはアルコキシ基である。]

【請求項9】
一般式[II]のXがClO,BF,PF,NO,F,Cl,Br,I,SOR,OCOR,OR,NR又はN(SiR(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の触媒。

【請求項10】
一般式[III]のRはフェニル基を有する基、R,RはH又は炭素数が1~10のアルキル基、Rは炭素数が1~10のアルコキシ基である
ことを特徴とする請求項7~請求項9いずれかの触媒。

【請求項11】
錯体であることを特徴とする請求項7~請求項10いずれかの触媒。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 登録
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO 小林高機能性反応場プロジェクト 領域
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