TOP > 国内特許検索 > 極端紫外光源および極端紫外光発生方法

極端紫外光源および極端紫外光発生方法 新技術説明会

国内特許コード P100000273
整理番号 E-063
掲載日 2009年7月10日
出願番号 特願2009-141221
公開番号 特開2010-287479
登録番号 特許第5574470号
出願日 平成21年6月12日(2009.6.12)
公開日 平成22年12月24日(2010.12.24)
登録日 平成26年7月11日(2014.7.11)
発明者
  • 窪寺 昌一
  • 加来 昌典
出願人
  • 国立大学法人 宮崎大学
発明の名称 極端紫外光源および極端紫外光発生方法 新技術説明会
発明の概要 【課題】プラズマ温度、密度を簡便に制御して、発光効率を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】レーザー光(6a)を照射するレーザー光源(6)と、前記レーザー光源(6)からのレーザー光(6a)が照射されて励起され、プラズマを生成して極端紫外光を放射するターゲット材(T)であって、第1の元素と、波長200nm以下の領域において前記第1の元素のスペクトル分布のスペクトル強度が最も強いスペクトル成分を含み且つ最も強いスペクトル成分におけるスペクトル分布の波形の半値全幅よりも広い半値全幅のスペクトル分布を有する第2の元素と、を少なくとも含む多元系の前記ターゲット材(T)と、を備えた極端紫外光源(1)。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要



従来、単元素の金属ターゲットを使用して、レーザー生成プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用する研究が盛んである。例えば、現在進行中の研究・開発である極端紫外光リソグラフィー光源では、スズ(錫:Sn)を金属ターゲットとして、波長13.5nmの極端紫外光が得られている。

このような極端紫外光源に関して、下記の特許文献1、2が知られている。





特許文献1としての特開平5-347195号公報には、複数種類の物質から構成されたターゲット層(3)にレーザーを照射して、プラズマ化することにより、極端紫外光を含むX線を発生させる技術が記載されている。特許文献1記載の技術では、ターゲット層(3)として、特許文献1の図2~図4に示されるようにスペクトル分布において異なる波長(スペクトル成分)でピークを持つ3つの元素(α、β、γ)が含まれたターゲット層(3)を使用することで、図5に示されるようにスペクトル分布が合成されて、広範な波長域においてほぼ均一な強度を有するX線が得られている。





特許文献2としての特開平10-208998号公報には、レーザープラズマX線源のターゲットとして、1種類以上の金属を含む複数の元素からなる材料を使用することで、1種類の金属単体の場合と比較して、融点を上昇させ、特定の波長付近でのスペクトルの強度を低下させずに飛散粒子等を低減させる技術が記載されている。

産業上の利用分野



本発明は、波長が200nm程度以下の紫外光である極端紫外光(EUV:Extreme Ultraviolet)を照射する極端紫外光源および極端紫外光発生方法に関し、特に、固体の金属ターゲットを使用する極端紫外光源および極端紫外光発生方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
レーザー光を照射するレーザー光源と、
前記レーザー光源からのレーザー光が照射されて励起され、プラズマを生成して極端紫外光を放射するターゲット材であって、第1の元素と、波長200nm以下の領域において前記第1の元素のスペクトル分布のスペクトル強度が最も強いスペクトル成分を含み且つ最も強いスペクトル成分におけるスペクトル分布の波形の半値全幅よりも広い半値全幅のスペクトル分布を有する第2の元素と、を少なくとも含む多元系の前記ターゲット材と、
を備え、
前記ターゲット材は、タングステンカーバイド、銅・タングステン合金、リン青銅、ジュラルミン、ハステロイ(登録商標)C-276およびアドバンスのいずれかにより構成された
ことを特徴とする極端紫外光源。

【請求項2】
第1の元素と、波長200nm以下の領域において前記第1の元素のスペクトル分布のスペクトル強度が最も強いスペクトル成分を含み且つ最も強いスペクトル成分におけるスペクトル分布の波形の半値全幅よりも広い半値全幅のスペクトル分布を有する第2の元素と、を少なくとも含む多元系の前記ターゲット材に対して、レーザー光を照射して励起し、プラズマを生成して、極端紫外光を放射することを特徴とする極端紫外光発生方法であって、
前記ターゲット材は、タングステンカーバイド、銅・タングステン合金、リン青銅、ジュラルミン、ハステロイ(登録商標)C-276およびアドバンス、
のいずれかにより構成されたことを特徴とする極端紫外光発生方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2009141221thum.jpg
出願権利状態 登録


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close