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新規化合物、及びその製造方法 新技術説明会

国内特許コード P100000518
整理番号 22925
掲載日 2010年1月22日
出願番号 特願2009-277344
公開番号 特開2011-116717
登録番号 特許第5649159号
出願日 平成21年12月7日(2009.12.7)
公開日 平成23年6月16日(2011.6.16)
登録日 平成26年11月21日(2014.11.21)
発明者
  • 内山 真伸
  • 村中 厚哉
  • 米原 光拡
出願人
  • 国立研究開発法人理化学研究所
発明の名称 新規化合物、及びその製造方法 新技術説明会
発明の概要 【課題】近赤外領域の光を吸収する新規化合物、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、下記一般式(1)、
【化1】



で表される化合物、その異性体、及びこれらの製造方法を提供する。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


色素材料は、例えば、顔料、色素増感太陽電池、有機薄膜太陽電池、光線力学的治療、記録材料、又はイメージングへの応用等、幅広い分野で応用されている。中でも、近赤外領域の光の利用を進めることを目的の一つとして、当該光を吸収する特性を有する色素材料(近赤外色素材料とも称する)の開発が進められている。



例えば、フタロシアニンは金属と錯体を形成して、通常は青色から緑色を呈する色素材料として知られている。また、フタロシアニンのベンゼン環をナフタレン環に置き換えたナフタロシアニンと呼ばれる色素材料は近赤外領域(例えば、波長800nm付近)に比較的狭い主吸収帯を有し、発光する(特許文献1、及び非特許文献1を参照)。

産業上の利用分野


本発明は、アズレン環が縮合した新規化合物、及びその製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記一般式(1)、(11)、(21)又は(31)、
【化1】


(一般式(1)、(11)、(21)及び(31)それぞれにおける、R1、R2、R3は互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい芳香環基、又は炭素数0~20の非芳香環置換基を表し、同一のアズレン環に存在するR1及びR2、R2及びR3はそれぞれ結合して環を形成してもよい。
異なるアズレン環に存在するR1同士、R2同士、及びR3同士は互いに異なっていてもよい。
Mは、2個の水素原子、又は2価以上のカチオン原子を表す。ただし、当該カチオン原子が3価以上の場合には、炭素数20以下のカウンターアニオンをさらに有していてもよい。)
で表されることを特徴とする化合物。

【請求項2】
一般式(1)、(11)、(21)及び(31)それぞれにおける、R1、R2、R3は互いに独立に、水素原子;ニトロ基;シアノ基;塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素からなる群より選択されるハロゲン原子;置換基を有していてもよい炭素数20以下の鎖状アルキル基;置換基を有していてもよい炭素数20以下のシクロアルキル基;置換基を有していてもよい炭素数20以下のアルコキシ基又はアリールオキシ基;置換基を有していてもよい炭素数20以下のアルキルチオ基又はアリールチオ基;置換基を有していてもよいアシル基;置換基を有していてもよい炭素数20以下のアルコキシカルボニル基;、又は、複素環基;であることを特徴とする請求項1に記載の化合物。

【請求項3】
一般式(1)、(11)、(21)及び(31)それぞれにおける、Mは、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Nb、Ru、Sb、Pd、及びPtからなる群より選択される何れか一種であることを特徴とする請求項1又は2に記載の化合物。

【請求項4】
請求項1~3の何れか一項に記載の化合物を含むことを特徴とする近赤外光吸収材。

【請求項5】
請求項1~3の何れか一項に記載の化合物を光吸収色素として含むことを特徴とする太陽電池素子。

【請求項6】
下記一般式(2)~(5)の何れか、
【化2】


(一般式(2)~(5)中における、R1、R2、R3は互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい芳香環基、又は炭素数0~20の非芳香環置換基を表す。)
で表されることを特徴とする化合物。

【請求項7】
請求項1~3の何れか一項に記載の化合物を製造する方法であって、
【化3】


(一般式(2)~(5)中における、R1、R2、R3は互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい芳香環基、又は炭素数0~20の非芳香環置換基を表す。)
上記一般式(2)で表される化合物から選択された少なくとも一種、上記一般式(3)で表される化合物から選択された少なくとも一種、上記一般式(4)で表される化合物から選択された少なくとも一種、又は上記一般式(5)で表される化合物から選択された少なくとも一種、を縮合する工程を含むことを特徴とする製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 登録
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