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触媒および反応方法 コモンズ

国内特許コード P100000624
整理番号 E076P135
掲載日 2010年4月9日
出願番号 特願2010-053299
公開番号 特開2011-183343
登録番号 特許第5116048号
出願日 平成22年3月10日(2010.3.10)
公開日 平成23年9月22日(2011.9.22)
登録日 平成24年10月26日(2012.10.26)
発明者
  • 小林 修
  • 山下 恭弘
  • 坪郷 哲
出願人
  • 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 触媒および反応方法 コモンズ
発明の概要 【課題】インドールに対するエノンのFriedel-Crafts型反応が高エナンチオ選択的に進行する技術を提供することである。
【解決手段】インドールとエノンとを反応させる方法であって、
アルカリ土類金属アミドと、水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなる触媒が用いられる。
従来技術、競合技術の概要


Ca,Sr,Ba等のアルカリ土類金属は地球上に広く存在するユビキタス元素である。これ等の元素の積極的な利用は我が国の元素戦略上重要である。本発明者らは、これまで、カルシウムアルコキシドと光学活性ビスオキサゾリン配位子より調製されたアニオン性錯体、ストロンチウムアルコキシドと光学活性キラルビススルホンアミド配位子から調製されたアニオン性錯体、カルシウムアルコキシドと光学活性ビスオキサゾリン配位子から調整された配位性錯体が、有効なブレンステッド塩基触媒として機能し、α-アミノエステル誘導体とα,β-不飽和カルボニル化合物とによる1,4付加反応や[3+2]付加環化反応、マロン酸エステルとα,β-不飽和カルボニル化合物との1,4付加反応やMannich反応、アズラクトンとα,β-不飽和エステルとの1,4付加反応が、高エナンチオ選択的に進行することを見出している。

産業上の利用分野


本発明は、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有するキラル配位子とによる触媒に関する。例えば、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有するキラル配位子とを触媒として用いたインドールとカルコンとの反応(不斉反応)に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
インドールとエノンとの反応に用いられる触媒であって、
前記触媒は、
アルカリ土類金属アミドと、水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなり、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[II]で表される化合物である
ことを特徴とする触媒。
一般式[II]


[一般式[II]中、R,RはH又は炭化水素基である。R,Rの中の少なくとも一方はHでは無い。R,Rは炭化水素基である。全てのR,Rは、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項2】
インドールとエノンとの反応に用いられる触媒であって、
前記触媒は、
アルカリ土類金属アミドと、水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなり、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[III]で表される化合物である
ことを特徴とする触媒。
一般式[III]



[一般式[III]中、Rは炭化水素基またはシリル基である。全てのRは、同一でも、異なっていても良い。R,Rは炭化水素基またはアルコキシ基である。全てのR,Rは、同一でも、異なっていても良い。RとRとは、環が形成されるものでも良い。]

【請求項3】
アルカリ土類金属アミドが下記一般式[I]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。
一般式[I]
MN(R
[一般式[I]中、Mはアルカリ土類金属、RはH、炭化水素基、又は置換基を有するシリル基である。全てのRは、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項4】
アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子との割合が、(アルカリ土類金属アミド):(水酸基を有する光学活性配位子)=1:3~3:1である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。

【請求項5】
インドールは下記一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。
一般式[IV]


[一般式[IV]中、R,R10は、H,X(ハロゲン)、炭化水素基、ニトロ基、アルコキシ基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基である。置換基としてのR10は1個~4個の何れかである。全てのR10は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項6】
エノンは下記一般式[V]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1の触媒。
一般式[V]


[一般式[V]中、R11,R14は、炭化水素基である。R12,R13は、H又は炭化水素基である。]

【請求項7】
インドールとエノンとを反応させる方法であって、
前記反応には、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなる触媒が用いられ、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[II]で表される化合物である
ことを特徴とする反応方法。
一般式[II]


[一般式[II]中、R,RはH又は炭化水素基である。R,Rの中の少なくとも一方はHでは無い。R,Rは炭化水素基である。全てのR,Rは、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項8】
インドールとエノンとを反応させる方法であって、
前記反応には、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなる触媒が用いられ、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[III]で表される化合物である
ことを特徴とする反応方法。
一般式[III]


[一般式[III]中、Rは炭化水素基またはシリル基である。全てのRは、同一でも、異なっていても良い。R,Rは炭化水素基またはアルコキシ基である。全てのR,Rは、同一でも、異なっていても良い。RとRとは、環が形成されるものでも良い。]

【請求項9】
アルカリ土類金属アミドが下記一般式[I]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
一般式[I]
MN(R
[一般式[I]中、Mはアルカリ土類金属、RはH、炭化水素基、又は置換基を有するシリル基である。全てのRは、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項10】
インドールは下記一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
一般式[IV]


[一般式[IV]中、R,R10は、H,X(ハロゲン)、炭化水素基、ニトロ基、アルコキシ基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基である。置換基としてのR10は1個~4個の何れかである。全てのR10は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項11】
エノンは下記一般式[V]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
一般式[V]


[一般式[V]中、R11,R14は、炭化水素基である。R12,R13は、H又は炭化水素基である。]

【請求項12】
アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子との割合が、(アルカリ土類金属アミド):(水酸基を有する光学活性配位子)=1:3~3:1である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
産業区分
  • 処理操作
  • 有機化合物
  • その他無機化学
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 登録
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO 小林高機能性反応場プロジェクト 領域
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