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液晶の加熱測定方法及びこれに用いるサンプルの加熱機構

国内特許コード P100001107
整理番号 N10012
掲載日 2010年10月28日
出願番号 特願2010-142340
公開番号 特開2012-008235
登録番号 特許第5515033号
出願日 平成22年6月23日(2010.6.23)
公開日 平成24年1月12日(2012.1.12)
登録日 平成26年4月11日(2014.4.11)
発明者
  • 太田 和親
出願人
  • 国立大学法人信州大学
発明の名称 液晶の加熱測定方法及びこれに用いるサンプルの加熱機構
発明の概要 【課題】 液晶材料の加熱温度を正確に制御して測定することを可能とし、液晶の相構造や配向性等の特性を測定する操作を効率的に行う。
【解決手段】 サンプルプレート40に支持されたサンプルSを所定の設定温度に加熱して測定を行う液晶の加熱測定方法であって、サンプルを所定の設定温度に制御する方法として、サンプルプレート40のセット部40aに、液晶となる温度が既知の液晶材料を供給し、ヒータ板31により前記サンプルプレートを加熱しながら前記液晶材料の転移点を検知する方法により、ヒータ板31によるサンプルの加熱温度をあらかじめキャリブレーションする工程を備え、前記キャリブレーションの結果にしたがってヒータ板31による加熱を制御して、サンプルプレート40にセットされたサンプルSの温度を制御する。
【選択図】 図3
従来技術、競合技術の概要



液晶の相構造や配向性等の特性を研究する方法として、X線回折測定や光吸収測定が利用される。液晶は加熱温度によって相構造や配向性等が変わるから、相構造等の特性を測定する場合は、サンプルの液晶を所定の温度に加熱して測定を行う必要がある。

液晶のサンプルを所定温度に加熱して測定を行う方法としては、ヒータブロックにサンプルを支持し、ヒータブロックを加熱してサンプルを加熱する方法(たとえば、特許文献1)、サンプルの周囲に電気炉等の加熱装置を配置して加熱する方法、フィルムヒータを用いてサンプルを加熱する方法(たとえば、特許文献2)等がある。





サンプルの温度を制御する方法としては、サンプルホルダ(ヒータブロック等)の温度をセンサを用いて検知し、加熱ヒータの通電を制御する方法が常法として行われている。サーミスタ式の温度計を使用し、ペルチェ式の加熱冷却手段を使用してサンプルを所定温度に制御するといった方法(特許文献3)もある。

産業上の利用分野



本出願は、液晶の加熱測定方法及びこれに用いるサンプルの加熱機構に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
サンプルを付着させて支持するセット部が形成されたサンプルプレートと、該サンプルプレートの裏面に配されるヒータ板とを備え、
前記ヒータ板を加熱し、前記サンプルプレートに支持されたサンプルを所定の設定温度に加熱して測定を行う液晶の加熱測定方法であって、
前記サンプルを所定の設定温度に制御する方法として、
前記サンプルプレートのセット部に、液晶となる温度が既知の液晶材料を供給し、前記ヒータ板により前記サンプルプレートを加熱しながら前記液晶材料の転移点を検知する方法により、前記ヒータ板によるサンプルの加熱温度をあらかじめキャリブレーションする工程を備え、
前記キャリブレーションの結果にしたがって前記ヒータ板による加熱を制御して、前記サンプルプレートにセットされたサンプルの温度を制御することを特徴とする液晶の加熱測定方法。

【請求項2】
前記サンプルの加熱温度をキャリブレーションする工程においては、
液晶となる温度が異なる複数種の液晶材料を前記サンプルプレートに供給し、前記ヒータ板によりサンプルプレートを加熱して、これら複数種の液晶材料についての転移点を検知する方法によってキャリブレーションすることを特徴とする請求項1記載の液晶の加熱測定方法。

【請求項3】
請求項1または2記載の液晶の加熱測定方法に使用するサンプルの加熱機構であって、
液晶のサンプルを付着させて支持するセット部としての凹部が表面に形成されたサンプルプレートと、
該サンプルプレートの裏面に接して、少なくとも前記セット部が形成された領域を含む範囲に配されるヒータ板とを有するサンプルの加熱部を備えることを特徴とするサンプルの加熱機構。

【請求項4】
前記サンプルの加熱部が、前記サンプルプレートと前記ヒータ板との間に介装され、ヒータ板からの熱をサンプルプレートに伝導させる熱伝導板を備えることを特徴とする請求項3記載のサンプルの加熱機構。

【請求項5】
前記サンプルの加熱部が、該加熱部における温度を検知する温度センサを備え、
前記温度センサに接続される温度検知装置と、前記ヒータ板への通電を制御してサンプルの温度を制御する制御装置とを備えることを特徴とする請求項3または4記載のサンプルの加熱機構。

【請求項6】
前記サンプルの加熱部が、ケーシング内に収納されていることを特徴とする請求項3~5のいずれか一項記載のサンプルの加熱機構。

【請求項7】
前記ケーシング内において、支持プレートに吊りワイヤを介して前記サンプルの加熱部が吊持されていることを特徴とする請求項6記載のサンプルの加熱機構。

【請求項8】
請求項3~7のいずれか一項記載のサンプルの加熱機構を備える測定用ホルダと、前記加熱機構に送風して冷却する冷却機構とを備えることを特徴とする液晶の測定装置。

産業区分
  • 光学装置
  • 試験、検査
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2010142340thum.jpg
出願権利状態 登録
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