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ジハロゲン化物、高分子化合物及びその製造方法 コモンズ 外国出願あり

国内特許コード P100001319
整理番号 04T228P/JP
掲載日 2010年12月6日
出願番号 特願2005-518020
登録番号 特許第4534044号
出願日 平成17年2月15日(2005.2.15)
登録日 平成22年6月25日(2010.6.25)
国際出願番号 JP2005002272
国際公開番号 WO2005078002
国際出願日 平成17年2月15日(2005.2.15)
国際公開日 平成17年8月25日(2005.8.25)
優先権データ
  • 特願2004-041996 (2004.2.18) JP
発明者
  • 山本 隆一
  • 福元 博基
  • 麻生 隆浩
出願人
  • 国立大学法人東京工業大学
発明の名称 ジハロゲン化物、高分子化合物及びその製造方法 コモンズ 外国出願あり
発明の概要

本発明の目的は、可溶性、耐熱性、電気化学的活性と蛍光生を有する機能材料としての用途が期待できる新規なπ共役高分子化合物と、その製造方法を提供することにある。
下記式で示されるジハロゲン化物。
【化1】

(式中、R1は、ハロゲンを示し、R2は、アルキル基、又は置換基を有するシリル基を示し、R3は、水素又はアルキル基を示す。)

従来技術、競合技術の概要


近年、芳香族系高分子化合物 は耐熱性、電気化学的活性、蛍光を有する材料として注目されており、例えば蛍光材料への応用展開が進められている。例えば、ポリアニリンやポリチオフェン等が、その電気化学的レドックス反応の応用により電池活物質機能があることが期待されている(A.G.MacDiarmid等 PCT Int.Appl. 82-US299)(「ポリマーバッテリー」山本、松永著、共立出版(1990))。
また、ポリパラフェニレン系高分子については高い耐熱性が期待され、(ポリパラフェニレンのベンゼン環の間をエチレン基で結合したポリ(9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイルも合成されてきた(polym. Bull. 30巻,285頁(1993)。

【非特許文献1】A.G.MacDiarmid等 PCT Int.Appl. 82-US299(「ポリマーバッテリー」山本、松永著、共立出版(1990)

【非特許文献2】polym. Bull. 30巻,285頁(1993)

産業上の利用分野


本発明は、ジハロゲン化物、高分子化合物、及びその製造方法に関し、特に、特定構造を主鎖内に有するジハロゲン化物、高分子化合物、及び当該ジハロゲン化物を出発原料として得る前記高分子化合物の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】 下記式で示されるジハロゲン化物。
【化学式1】
(式中、R1、R1'は、ハロゲンを示し、R2、R2'は、置換基を有するシリル基を示し、R3、R3'は、水素又はアルキル基を示す。)
【請求項2】 置換基を有するシリル基が、Si(CH3)3、Si(n-C4H9)3、Si(t-C4H9)3、Si(CH3)2(C6H5)、Si(CH3)2(n-C18H37)からなる群から選択される少なくとも1種である請求項1記載のジハロゲン化物。
【請求項3】 アルキル基が炭素数1~20の間のアルキル基である請求項1又は2項に記載のジハロゲン化物。
【請求項4】 下記式で示される構造を主鎖内に有する高分子化合物。
【化学式2】
(式中、R2、R2'は、置換基を有するシリル基を示し、R3、R3'は、水素又はアルキル基を示す。)
【請求項5】 下記式で示される請求項4記載の高分子化合物。
【化学式3】
(式中、R2、R2'は、置換基を有するシリル基を示し、R3、R3'は、水素又はアルキル基を示す。nは重合度を表し、5~1000である。)
【請求項6】 さらに、請求項4に記載の式で示される構造及びそれ以外の構造からなる共重合体からなる請求項4記載の高分子化合物。
【請求項7】 前記共重合体が、下記式、
【化学式4】
(R4、R4'及びR5、R5'は、アルキル基を示す。)
【化学式5】
(R6、R6'は、置換基を有するシリル基。R7、R7'はアルキル基を示す。)
【化学式6】
(R6、R6'は置換基を有するシリル基を示す。)
【化学式7】
(R6、R6'は、置換基を有するシリル基。R7、R7'はアルキル基を示す。)
【化学式8】
(R7、R7'、R8、R8'、R9、R9'はいずれもアルキル基を示す。)
からなる群から選択される少なくとも1種である請求項5記載の高分子化合物。
【請求項8】 アルキル基が炭素数1~20の間のアルキル基である請求項4~7項のいずれか1項に記載の高分子化合物。
【請求項9】 請求項4~8項のいずれか1項に記載の高分子化合物を、請求項1又は2項に記載のジハロゲン化物を脱ハロゲン化して重合することにより得ることを特徴とする高分子化合物の製造方法。
【請求項10】 脱ハロゲン化重合が、パラジウム化合物またはニッケル化合物の存在下で行なわれる請求項8記載の高分子化合物の製造方法。
【請求項11】 請求項4~8項のいずれか1項に記載の高分子化合物を用いて得られる薄膜。
【請求項12】 4,4'-ジブロモ-ビフェニル-2,2'-ジカルバルデヒドに、四塩化チタンと亜鉛を加えることを特徴とする2,7-ジブロモ-トランス-9,10-ジヒドロフェナントレン-9,10-ジオールの製造方法。
産業区分
  • 高分子化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
詳しくお知りになりたい方は下記「問合せ先」まで直接お問合わせください


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